表面分析

电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 ， 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。

ADR低温恒温器是 FormFactor公司利用多年的低温经验来提供优秀的干式mK系统。可替代更昂贵，更占用空间的稀释制冷机（DR）。

KLA Candela光学表面缺陷分析仪（OSA）可对半导体及光电子材料进行先进的表面检测。Candela系列既能够检测Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板，又能对SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料进

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可对玻璃、半导体及光电子材料进行表面检测。

自由曲面光学元件应用于智能车载显示、AR 显示、手机镜头、激光显示、照明、 光刻等前沿领域，自由曲面三维面型检测仪，能够非接触测量光学镜面元件的三维面型数据，开展三维轮廓分析和三维误差比对。

具备三维翘曲（平整度）及薄膜应力的检测功能，适用于半导体晶圆生产、半导体制程工艺开发、玻璃及陶瓷晶圆生产。

具备化合物晶圆内应力分布测量及缺陷筛查等检测功能

全新的BI-4500表面等离⼦子体激元共振(SPR)仪具有多通道流动模式，有助于对固定量低和分⼦子量小(<100 Da)的分析物的准确检测。

全新的BI-2500小型台式表面等离子体共振(SPR)仪具有3通道流动模式, 能够准确地检测小分子(100Da与蛋白质的相互作用, 可用于蛋白质亲和常数的测定。

SPRm200 表面等离子共振显微镜 工作原理基于表面等离子共振（SPR）技术。是将表面等离子体共振技术和光学显微镜巧妙结合为一体的生物传感检测仪。

Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量。

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量。

对于厚膜折射率的测量，单色光被直接照射到被测样品上，这样，从薄膜表面反射回来的光的干涉小值就会发生变化，光的入射角也会发生变化。

被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。

KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从 nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚准确测量。