扫描电子显微镜及相关设备

日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9...

电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 ， 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。

采用肖特基场发射电子枪 （FEG） 技术。先进的全柱加速技术集成到电子光学柱中 ，确保在低加速电压下具有出色的成像性能，实现各种材料的高分辨率成像。

新型电感耦合技术(ICP)产生等离子体,粒子密度远高于传统的电容耦合技术(CCP) 产生的高浓度氧自由基可高效去除样品表面碳氢污染物 “DOWNSTREAM”清洗方式对样品无损伤,表面原始形貌被完...

用户界面简洁，参数设置便利 工作时显示设备关键参数，全过程可控 模块化设计，不同功能间切换快捷

集Downstream等离子体、紫外辐照、加热真空脱附三种清洗模式于一体，随时切换。 适用于各种扫描电镜、聚焦离子束显微镜、透射电镜样品清洗。

样品室可抽高真空用于样品真空保存。 卷带亲水化处理，显著改善亲水性。