设计理念
1. SE series可执行Thermal-ALD，PEALD，与ALA等先进制程。
2. SE series具有高度的改造弹性，但其性能与稳定性并不因此而牺牲。
3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
设计特点
1. 模块化前驱物导入系统易于维护、维修与扩充较多4组前驱物，并可使用 低蒸汽压前驱物；彻底分流避免管路堵塞与粉尘问题
2. 低泄露率特殊设计，可摒除低剂量污染源影响制程结果
3. 满足现行多数材料制程需求： Oxide or nitride of Al，Si，Ti，Zr，Hf，etc..Metal(TBD)
4. 单系统宽54cm内，实验室友好尺寸
5. 特殊电浆源设计(Remote plasma)可提升GPC 6%(相较于ICP)
6. 特殊进气设计改善均匀性(U%<2%)针对死角残留问题进行特殊设计.
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已咨询2938次P 系列粉末原子层沉积系统
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已咨询1490次薄膜半导体材料制备系统
1. SE series可执行Thermal-ALD，PEALD，与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性，但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发，表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径：每根针经过质检； 较小探针差异：较为特加工工艺实现精准控制
AIUniBeam”是一种基于Al的光束均匀性补偿技术采用光束轮廓仪进行补偿。光束轮廓仪测量每个像素的强度，然后通过像素控制对局部强度进行补偿和优化，以满足98%以上的均匀性。
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我们的SERS基底采用创新技术制造，使您可以进行SERS快速和重复测量，从而对SERS活性的样品进行定性分析和定量分析。
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