聚合物笔印刷Park XE-PPL
电子束曝光机(Electron Beam Lithography, EBL)
原子层沉积系统-SE6
台式无掩模光刻机-SHNTI
电子束曝光系统 ELS-F125/F100/HS50
简介:
Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物笔印刷是新发展起来的图案化方法,结合了微接触印刷(uCP)和蘸笔印刷(DPL)的优点,可以实现低消耗、柔性的分子印刷,可能使得纳米图案化领域发生变革。 PPL是基于无悬臂的扫描探针印刷技术,无需掩膜版即可在超平方厘米的区域内,利用弹性体的笔尖在多种材料和基底上打印10nm 到90nm 范围内光斑尺寸的数字化图案。当锋利的笔尖接触到基质,墨水被传递到接触点。PPL是一种可以直接拼写的技术,相对于典型打印技术可以完美地生产复杂的图案,并且可以研究超材料结构和器件的光电性质。利用这种技术,可以制备由蛋白质等软物质组成的结构阵列,在生命科学领域有着潜在的用途。

Park XE-PPL:
解耦无弓型弯曲扫描器,使聚合物笔阵列均匀接触,当我们使用该系统扫描相当平整的硅晶圆时,100um和400um的运动范围,曲率分别小于2nm和10nm。
电动二维倾斜平台,聚合物笔阵列的电动调平,XY倾斜角度分辨率为5urad(0.0003°),XY倾斜角度范围为±3度。
扫描结果可以减少依赖扫描位置,无需软件处理
提供宽广的光学视图,分辨率<1um,可显示1mm×0.75mm视图且可以移动1cm×1cm,所以可以监测所有笔阵列区域
Z轴的长移动范围 (25um),可以更好的控制接触力,而且可制作图案的尺寸范围也很大(50nm-25un)
应用:
扫描探针嵌段共聚物印刷 (SPBCL)
光束笔印刷 (BPL)
硬尖软弹簧印刷 (HSL)
多重模式的蛋白质阵列
材料科学与技术;纳米粒子图案化,多重纳米粒子阵列,集成电路
生物和药物学:蛋白质,抗体和DNA纳米阵列,可用于药物筛选,医学诊断,生物传感器和生物芯片的研究

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将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制