台式无掩模光刻机-SHNTI

台式无掩模光刻机-SHNTI

AIUniBeam”是一种基于Al的光束均匀性补偿技术采用光束轮廓仪进行补偿。光束轮廓仪测量每个像素的强度，然后通过像素控制对局部强度进行补偿和优化，以满足98%以上的均匀性。

电子束曝光系统-纳腾Pharos 310电子束曝光系统

电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 ， 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。

拉曼增强试剂

SERS芯片基底

我们的SERS基底采用创新技术制造，使您可以进行SERS快速和重复测量，从而对SERS活性的样品进行定性分析和定量分析。

纳米压印胶

柱状模板

光栅模板

孔状模板