Linear Gratings
Product | Period | Line | Area | Etch depth (Si/quartz) |
P125L_80d | 125nm | 80mm dia. | 100nm / - | |
SNS-C72-1212-50-P SNS-C72-2525-50-P | 139nm | 69.5nm | 12.5×12.5/ 25×25mm | 50nm/- |
P140L_80d | 140nm | 80mm dia. | 100nm / - | |
P150L_30w30 | 150nm | 30x30mm2 | 75nm / - | |
P150L_90d | 150nm | 90mm dia. | 75nm / - | |
P200L_90d | 200nm | 90mm dia. | 150nm / - | |
P250L_30w30 | 250nm | 30x30mm2 | 200nm / 100nm | |
P250L_100d | 250nm | 100mm dia. | 200nm / 100nm | |
SNS-C36-1212-110-P | 278nm | 139nm | 12.5×12.5mm | 110nm / - |
P280L_80d | 280nm | 80mm dia. | 200nm / 100nm | |
P300L_30w30 | 300nm | 30x30mm2 | 300nm / 100nm | |
P300L_100d | 300nm | 100mm dia. | 300nm / 100 | |
P400L_30w30 | 400nm | 30x30mm2 | 300nm / 150nm | |
P400L_100d | 400nm | 100mm dia. | 300nm / 150nm | |
SNS-C24-1212-110-P | 416.6nm | 208nm | 12.5×12.5mmm | 110nm / - |
P500L_30w30 | 500nm | 30x30mm2 | 400nm / 200nm | |
P500L_100d | 500nm | 100mm dia. | 400nm / 200nm | |
MALS250/500/500-30*30 | 500nm | 250nm | 30mm/40 | 500nm(Silicon/Nickel) |
SNS-C20-0808- D60-150-P | 500nm | 300nm | 8×8.3mm | 150nm/ - |
SNS-C20-0808-D60-350-P | 500nm | 300nm | 8×8.3mm | 350nm/ - |
SNS-C20-0808- D45-150-P | 500nm | 220nm | 8×8.3mm | 150nm/ - |
SNS-C20-0808-D45-350-P | 500nm | 220nm | 8×8.3mm | 350nm/ - |
SNS-C18-2009-140-D29-P | 555.5nm | 158nm | 20×9mm | 140nm/- |
SNS-C18-2009-140-D50-P | 555.5nm | 278nm | 20×9mm | 140nm/- |
SNS-C18-2009-110-D29-P | 555.5nm | 158nm | 20×9mm | 110nm/- |
SNS-C18-2009-110-D50-P | 555.5nm | 278nm | 20×9mm | 110nm/- |
P560L_80d | 560nm | 80mm dia. | 400nm / 200nm | |
P600L_100d | 600nm | 100mm dia. | 500nm / 250nm | |
SNS-C16.7-0808-D45-150-P | 600nm | 260nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
SNS-C16.7-0808-D45-350-P | 600nm | 260nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
SNS-C16.7-0808-D55-150-P | 600nm | 330nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
SNS-C16.7-0808-D55-350-P | 600nm | 330nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
SNS-C16.5-2912-190-S4 | 606 nm | 303 nm | 29×12mm | 190 nm/- |
SNS-C16.5-2912-190-P | 606 nm | 303 nm | 29×12mm | 190 nm/- |
SNS-C16.5-2924-190-P | 606 nm | 303 nm | 29×24.2mm | 190 nm/- |
SNS-C14.8-2410-170-P | 675 nm | 218 nm | 24×10mm | 170 nm/- |
SNS-C14.8-2430-170-P | 675 nm | 218 nm | 24×30.4mm | 170 nm/- |
SNS-C14.3-0808-D45-150-P | 700nm | 330nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
SNS-C14.3-0808-D45-350-P | 700nm | 330nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
SNS-C14.3-0808-D55-150-P | 700nm | 375nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
P800L_100d | 800nm | 100mm dia. | 600nm / 300nm | |
SNS-C12-1212-200-P SNS-C12-2525-200-P | 833.3nm | 416nm | 12.5×12.5/ 25×25mm | 200nm/- |
SNS-C11.7-1212-200-P/ SNS-C11.7-2525-200-P | 855nm | 428nm | 12.5×12.5/ 25×25mm | 200nm/- |
P1000L_100d | 1000nm | 100mm dia. | 800nm / 400nm | |
NALS500/250/1000-20*20 | 1000nm | 500nm | 20mm/30mm | 250nm(Ni) |
P1300L_75w55 | 1300nm | 75x55mm2 | 1000nm/ 500nm | |
MTLS1/1/2-50*50 | 2um | 1um | 50mm | 1um/2um(Si) |
其他规格,详询,可定制
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已咨询205次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨询1005次拉曼/OCT光谱仪
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已咨询352次光色散器件(光栅等)
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已咨询1195次衍射光栅
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已咨询1016次拉曼/OCT光谱仪
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已咨询1010次衍射光栅
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制