








台式无掩模光刻机-SHNTI
无掩膜激光直写Laser direct writing
多功能无掩膜激光直写LDW
接近式光刻机 MAL8
电子束曝光机(Electron Beam Lithography, EBL)









报价:面议
已咨询199次激光制样
报价:面议
已咨询217次等离子设备
报价:面议
已咨询182次等离子设备
报价:面议
已咨询239次等离子设备
报价:面议
已咨询208次等离子设备
报价:面议
已咨询232次等离子设备
报价:面议
已咨询194次激光干涉光刻机
报价:面议
已咨询223次CMP抛光机
报价:面议
已咨询183次激光直写光刻机
报价:面议
已咨询6018次半导体参数分析仪
报价:面议
已咨询1051次制冷加热控温系统
报价:面议
已咨询4650次半导体参数分析仪
报价:面议
已咨询1177次光刻机
报价:面议
已咨询194次激光干涉光刻机
报价:面议
已咨询305次科时达
报价:面议
已咨询10928次
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制