离子刻蚀机 VITA反应离子刻蚀机（垂直腔室）
刻蚀清洗系统 COWIN高通量综合等离子反应离子刻蚀清洗系统
聚对二甲苯涂层设备 LAVIDA 聚对二甲苯涂层设备
离子刻蚀机清洗机Co系列桌面式等离子刻蚀机清洗机
等离子CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机
简介
反应离子刻蚀系统，垂直腔室
型号比较：
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报价：￥200000
已咨询738次离子刻蚀机,电子蒸发镀膜机
将传统玻片数字化，进行存储与管理，可建立数字切片库，便于培训、分析、管理等，脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术，广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入，通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机（Pharos系列产品）， 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势， 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域， 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD，PEALD，与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性，但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发，表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径：每根针经过质检； 较小探针差异：较为特加工工艺实现精准控制
营业执照已审核
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