离子刻蚀机 VITA反应离子刻蚀机（垂直腔室）
刻蚀清洗系统 COWIN高通量综合等离子反应离子刻蚀清洗系统
聚对二甲苯涂层设备 LAVIDA 聚对二甲苯涂层设备
离子刻蚀机清洗机Co系列桌面式等离子刻蚀机清洗机
等离子CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机
桌面式等离子清洗、蚀刻系统，PE等离子蚀刻模式
腔室结构：
型号比较：
应用：
· 表面清洗活化
· 表面蚀刻
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电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺 ， 是光刻工艺的延伸应用 。 电子束曝光系统是实现电子束曝光 技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等参数。
我们的SERS基底采用创新技术制造，使您可以进行SERS快速和重复测量，从而对SERS活性的样品进行定性分析和定量分析。
GGB行业，一系列校准基板允许用户校准多种GGB 行业的Picoprobe®探头尖端。测量系统校准的基本原理是提供测量系统可以连接到的精确已知标准。
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