简介
校准基板
GGB行业，一系列校准基板允许用户校准多种GGB 行业的Picoprobe®探头尖端。测量系统校准的基本原理是提供测量系统可以连接到的精确已知标准。GGB行业，校准基板生产线就是这样一个标准。每个校准基板都包含高度精确的元件，用于校准微波网络分析仪、其相关布线和微波探头中不可避免的误差和损耗，以确保精确的晶圆上测试
支持精确的 SOLT、LRL/TRL 和 LRM/TRM 校准
包括 CalKit 软件，可轻松加载到网络分析器
宽间距范围从 30 到 2540 微米
适用于所有Picoprobes®从直流到220 GHz
适用于 GS、SG、GSG 运行轨迹
方便的对齐结构
根据严格的标准进行单测试和修剪
差分校准基板
GGB行业，一系列的差分校准基板，允许用户校准多种 GGB行业、Picoprobe®探头尖端。测量系统校准的基本原理是提供测量系统可以连接到的精确已知的标准。GGB行业，校准基板生产线就是这样一个标准。每个校准基板都包含高度精确的元件，用于校准微波网络分析仪、其相关布线和微波探头中不可避免的误差和损耗，以确保精确的晶圆测试。
支持精确的 SOLT、LRL 和 LRM 校准
包括 CalKit软件，可轻松加载到网络分析器
间距范围从 45 到 1325 微米
适用于所有Picoprobes®从直流到110 GHz
适用于 GSGSG、GSSG 和 SGS 运行轨迹
负载标准单修剪至0.25% 精度
25 mil（ 635微米）厚的氧化铝基
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已咨询203次探针台耗材
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已咨询206次探针台耗材
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已咨询208次探针台耗材
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已咨询247次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨询182次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨询205次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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将传统玻片数字化，进行存储与管理，可建立数字切片库，便于培训、分析、管理等，脱离时间、空间限制。
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将传统玻片数字化，进行存储与管理，可建立数字切片库，便于培训、分析、管理等，脱离时间、空间限制。
电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术，广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入，通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机（Pharos系列产品）， 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势， 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域， 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD，PEALD，与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性，但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发，表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径：每根针经过质检； 较小探针差异：较为特加工工艺实现精准控制
营业执照已审核
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