长晶炉 6/8英寸 碳化硅SiC长晶设备
金刚石长晶设备MPCVD金刚石长晶设备
电子束曝光机(Electron Beam Lithography, EBL)
原子层沉积系统-SE6
台式无掩模光刻机-SHNTI
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统,微波发生器产生的微波用波导管传输至反应器,并向反应器中通入不同气体构成的混合气体,高强度微波能激发分解基片上方的含碳气体形成活性含碳基团和原子态氢,并形成等离子体,从而在基片上沉积得到金刚石薄膜。
Intelligent MPCVD Dimond Growth System (IMD)系列金刚石晶体生长系统,是实现高质量金刚石晶体生长、高纯度晶体薄膜沉积、高温晶体热处理的专业设备。广泛应用于金刚石晶体生长、原料沉积、晶体热处理领域。
以金刚石为代表的宽禁带半导体材料在微电子、电力电子和半导体照明器件等领域有着重要的应用和广阔的市场前景。同时它还以其优异的物理和化学性能在国防、航空、航天、石油勘探、光存储、传感器窗口、显示等领域有着重要应用前景,市场潜力巨大。金刚石器件己从高价时代的航天、航空、雷达、核能开发等领域,扩展至石油和地热钻井勘探、变频空调、平板电视、混合动力汽车和电动汽车以及太阳能光电变换等民用领域。




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已咨询380次原子层沉积系统ALD产品
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将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制