HKHZ-BM-200A 光学生物显微镜
HKHZ-BPM-1A 光学生物显微镜
HKHZ-BPM-4A 光学生物显微镜
立体显微镜徕卡M系列LeicaM165FC/205FA
立体显微镜徕卡M系列LeicaM125/165C/205C/205A
仪器简介:
Leica DCM 3D 双核三维轮廓仪结合了共聚焦成像和干涉测量技术
*三维立体观察部分:放大倍率可根据实际使用需求进行配置
*操作:电动调焦
*成像系统:1、普通平面成像 2、三维立体成像系统 三维建模 、 三维分析及测量功能 *显微分光光度计升级功能
*3合1的双核技术设备:BF/DF(明场/暗场)光学显微镜 、Confocal(供焦)显微镜 Interferometry(干涉)显微镜
*超大Z轴范围:0.1nm-40mm,同样适合大样品
*无需耗材维护费用:智能双LED同光路照明
*低图像失真:Micro-display数码X/Y扫描
*彩色和3D图像合成:完全同一的光路设计
*适用各种样品表面:只需更换物镜倍率,共焦和干涉模式
*快速彩图:3-10秒
*优秀的干涉效果:徕卡有的干涉物镜
报价:面议
已咨询234次显微镜
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报价:¥50000
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报价:面议
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报价:面议
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将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
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电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制