SPA系列可以提供精确的、非接触、无损膜厚度测量,适用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜,在干涉条纹产生的基础上通过改变角度产生干涉条纹(VAMFO-变角度单色条纹观测)的方法。对于厚膜折射率的测量,单色光被直接照射到被测样品上,这样,从薄膜表面反射回来的光的干涉小值就会发生变化,光的入射角也会发生变化。在这种技术中,薄膜厚度是由两个干涉小值的角的位置计算出来的。对于这种测量条件——薄膜具有两个或两个以上的干扰小值——薄膜厚度必须大于低脱粒率,通常为2微米。样品夹持机采用真空从背面支撑样品,安装方便简单。可测量薄膜/基底的类型,硅衬底上几乎多种透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介质、聚合物或薄膜。可测量的薄膜/衬底类型:氧化物、氮化物、介电材料、聚合物、或硅衬底上几乎多种透明或半透明材料的薄膜。
采用带温控台的SPA-4000双棱镜对材料薄膜的光热学系数进行了测量,材料的光热系数被定义为折射率随温度变化的函数,可以被用作光学数字开关,Mach-Zehnder间距式和交叉式光学开关,这些光器件通过改变温度来控制光路,在网络通信中起着关键作用。该材料中广泛引用的光学效应理论Prod’homme理论
产品特性:
1. 薄膜及波导折射率/厚度/光损测量
2. 折射率和薄膜厚度的高分辨率测量
3. 准确测量散装或基材材料
4. 双层薄膜测量(甚至在波长1310 nm或1550 nm处有几个~㎛厚度)
5. 不相关的薄膜/基板组合
6. 无需预先知识,操作简单。
7. 批量或基板材料的准确测量
8. 各向异性/双折射测量(TE和TM能力)
9. 快速表征
10. 可用于波长范围内的许多激光器(632.8nm~1550nm)
技术指标:
测量指标 | 范围 | |
折射率 | 折射率测量范围 | 1.0 to 2.45 |
折射率精度 | 0.001 | |
折射率分辨率 | ±0.0005 | |
厚度 | 厚度测量范围 | 0.4㎛-20㎛ |
厚度精确度 | ±0.5% | |
厚度分辨率 | ±0.01㎛ | |
体材料 | 折射率精度 | 0.0005 |
(仅测折射率) | 折射率分辨率 | ±0.0001 |
厚薄膜 | 厚度测量范围 | 2㎛-150㎛ |
液体 | 折射率测量范围 | 1.0 to 2.4 |
(仅测折射率) | 折射率精度 | ± 0.0005 |
热光系数 | 温度测试范围 | 室温-150℃ |
波导损耗测量 | 测量限度 | below 0.05dB/cm |
三、应用
光通信系统的光学元件
- 光学开关
- 用于WDM的可变光衰减器(VOA)(波分复用)
- 低光传播损耗
塑料光纤(POF)
- 用于光通信的塑料光纤放大器(POFA)
- 用于波导的高温聚合物
温度依赖性
聚合物的性质
- 研究聚合物的铬性质
- 信息显示和处理
- 存储材料
纳米器件:MEMS,微电子
应用领域:
使用SPA系列棱镜耦合仪可以测量所有类型的薄膜/基材。具体请参看下面表格。
这些散装和立式胶片是可测量的。
薄膜类型 | 衬底类型 | |
氮化硅 | 氮化硅 | 硅 |
二氧化硅 | ITO | 砷化镓 |
硅氮氧化物 | 蓝宝石 | 石英 |
Low-K Films | 硫化锌 | 玻璃 |
聚酰亚胺 | 二氧化钛 | 蓝宝石 |
聚合物 | Epi石榴石 | GGG |
光刻胶 | 全息凝胶 | 铌酸锂 |
报价:面议
已咨询199次膜厚仪
报价:面议
已咨询241次膜厚仪
报价:面议
已咨询216次膜厚仪
报价:面议
已咨询304次膜厚仪
报价:面议
已咨询221次膜厚仪
报价:面议
已咨询229次膜厚仪
报价:面议
已咨询812次薄膜厚度/折射率测试仪
报价:面议
已咨询70次光纤激光器
报价:面议
已咨询172次周期极化晶体
报价:面议
已咨询310次像增强器
报价:面议
已咨询358次半导体激光器
报价:面议
已咨询71次声光调制
报价:面议
已咨询1974次
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
将传统玻片数字化,进行存储与管理,可建立数字切片库,便于培训、分析、管理等,脱离时间、空间限制。
电子束曝光一种高分辨率的微细加工技术,广泛应用于纳米科技和半导体制造领域。其基本原理是利用聚焦的电子束在光刻胶上进行直接写入,通过改变光刻胶的化学性质来形成微纳米结构图案。上海纳腾仪器有限公司自主研发的电子束曝光机(Pharos系列产品), 具有高分辨率、 精准控制和高度自动化的优势, 被广泛应用于制备半导体芯片、 光子学元件和其他微纳米结构等领域, 是进行亚微米至纳米级曝光技术研发的理想工具。
1. SE series可执行Thermal-ALD,PEALD,与ALA等先进制程。 2. SE series具有高度的改造弹性,但其性能与稳定性并不因此而牺牲。 3. 原子层沉积系统设计具有便捷、稳定、再现性高的产品定位。
WinSPM EDU 系统荣获“全国教学仪器设备评比较好奖”,该奖项由国家教育装备委员会颁发,表彰其在纳米教育实验系统方面的创新设计、稳定性能和在全国高校广泛应用中的突出表现。
日本东宇 是业界知名的氮气发生器厂家,拥有30年丰富的销售经验及专业的售后支持团队。 日本京都的研发生产中心, 与合作实验室持续开发新机型。 在日本、 中国等多国取得多项技术专利。工厂通过ISO9001认证。
较为低的曲率半径:每根针经过质检; 较小探针差异:较为特加工工艺实现精准控制