托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。
激光直写光刻技术与DMD无掩模光刻技术
激光直写技术通过激光束直接在材料表面进行高精度加工，而DMD无掩模技术通过数字微镜阵列投影光束进行图案化加工，适用于大面积光刻。
DMD无掩模光刻技术路线介绍
基本原理：DMD技术利用数字微镜装置（Digital Micromirror Device）来控制微镜的角度，从而通过投影系统在材料表面快速形成图像或光刻图案 。这些微镜根据电信号的控制会精确调节反射角度，将激光或光源投射到特定位置。
系统组成：基于DMD的无掩模光刻系统通常由光源模组、匀光模组、DMD模组、投影模组、运动台模组和软件等几大部分构成，这些模组高效的协同工作，实现了高分辨率图案的快速无掩模光刻。
工作流程：上位机的发送图形数据到DMD模组，DMD显示对应的图形，经由DMD反射的光携带着图形信息，并经过一系列光学元件后照射到基片上，实现了图形的转移。高精度运动平台的协同工作，确保不同曝光区域的拼接实现大型、复杂图案的动态曝光。
高速版-Speed 无掩模光刻机
更快的加工速度、更强的设备性能，适用于小批量生产制造
●8 英寸加工幅面
●最小特征尺寸可达0.5 μm
●扫描式光刻
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TTT-02-Kerr Microscope磁光克尔显微镜综合测试设备不仅是一台显微镜，更是一个集高分辨显微成像、多模式磁学激励、原位电学测量于一体的综合性研究平台，旨在为磁学与自旋电子学领域的尖端研究提供前所未有的强大工具。
托托科技的“神影MV-1000系列”3D显微镜，集成了白光干涉、景深融合和共聚焦三种测量模式，能够进行纳米级到毫米级尺度的表面形貌分析，包括粗糙度、台阶、面形轮廓、曲率等多种参数。
SU-8光刻胶是一种基于环氧树脂的负性光刻胶，其中“负性”意味着当光刻胶暴露于紫外线时，暴露部分会形成交联，而未被暴露的部分在显影过程中会被冲洗掉，其名字来源于其结构中的8个环氧基团，这些环氧基团可以交联形成最终结构。
托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和高效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。
织雀®系列超高精度3D光刻设备专为复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构的制造而设计，凭借其性能，成为微纳制造领域的理想选择。
苏州托托
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