苏州托托产品
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苏州托托应用领域
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- 无掩模光刻机应用案例丨东华大学/上海交通大学医学院《Advanced Materials》：离子可渗透电极赋能纳米纤维织物垂直有机电化学晶体管
- 随着可穿戴健康监测与柔性电子的发展，迫切需要在低电压、低功耗且可长期贴肤的平台上，实现对微弱电生理信号的稳定采集与高保真放大。然而，传统金属电极与刚性放大电路在透气性、机械适配性及抗运动干扰方面存在局 [详细]
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2026-01-27 14:09
应用方案|
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- 赋能微纳制造，引领科研创新丨托托科技•无掩模紫外光刻机2025年度总结
- 在实验室，一个颠覆性研究构想从诞生到落地，常被传统微纳加工的高成本、长周期和僵化迭代所阻碍。每一次设计修改，都意味数周等待与可观耗费，创新火花在流程中悄然黯淡。 [详细]
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2025-12-17 11:19
技术参数|
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- 前沿佳作丨顶刊文献！DLP光固化工艺的材料大比拼：多材料软硬通吃、可溶支撑、荧光DLP材料
- 在3D打印技术飞速发展的今天，DLP光固化工艺凭借其高精度、高效率的优势，已成为制造复杂结构与功能器件的重要工具。然而，其广泛应用仍受限于材料的性能与功能单一性。近年来，材料科学的突破为DLP技术注入 [详细]
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2025-12-05 14:11
科技文献|
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- 客户成果丨南昌航空大学《Laser & Photon. Rev.》：适用于多功能光电集成的超灵敏增强型AlGaNGaN HEMT晶体管光探测器阵列
- 南昌航空大学仪器科学与光电工程学院肖文波团队、华南师范大学电子科学与工程（微电子）学院博士生刘志远以及杨孟孟特聘副研究员、广东工业大学郑兆强副教授在紫外光电子探测领域取得新进展。 [详细]
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2025-11-25 16:13
应用方案|
苏州托托产品资料
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超高精度微纳3D打印设备- 织雀®PL-3D 是托托科技自主研发的桌面式超高精度微纳3D打印设备，光学精度达5μm。在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势。[详细]
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2025-01-22 15:14
产品样册|
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- 无掩膜光刻机
- 光刻机又名掩膜对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。 根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩膜版细分为有掩膜和无掩膜两种。无掩膜光刻机是一种不需要使用传统掩膜版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩膜光刻机不需要掩膜版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。[详细]
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2024-09-15 17:53
产品样册|
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