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- 无掩模光刻机应用案例丨东华大学/上海交通大学医学院《Advanced Materials》：离子可渗透电极赋能纳米纤维织物垂直有机电化学晶体管
- 随着可穿戴健康监测与柔性电子的发展，迫切需要在低电压、低功耗且可长期贴肤的平台上，实现对微弱电生理信号的稳定采集与高保真放大。然而，传统金属电极与刚性放大电路在透气性、机械适配性及抗运动干扰方面存在局 [详细]
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2026-01-27 14:09
应用方案|
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- 赋能微纳制造，引领科研创新丨托托科技•无掩模紫外光刻机2025年度总结
- 在实验室，一个颠覆性研究构想从诞生到落地，常被传统微纳加工的高成本、长周期和僵化迭代所阻碍。每一次设计修改，都意味数周等待与可观耗费，创新火花在流程中悄然黯淡。 [详细]
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2025-12-17 11:19
技术参数|
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- 前沿佳作丨顶刊文献！DLP光固化工艺的材料大比拼：多材料软硬通吃、可溶支撑、荧光DLP材料
- 在3D打印技术飞速发展的今天，DLP光固化工艺凭借其高精度、高效率的优势，已成为制造复杂结构与功能器件的重要工具。然而，其广泛应用仍受限于材料的性能与功能单一性。近年来，材料科学的突破为DLP技术注入 [详细]
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2025-12-05 14:11
科技文献|
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- 客户成果丨南昌航空大学《Laser & Photon. Rev.》：适用于多功能光电集成的超灵敏增强型AlGaNGaN HEMT晶体管光探测器阵列
- 南昌航空大学仪器科学与光电工程学院肖文波团队、华南师范大学电子科学与工程（微电子）学院博士生刘志远以及杨孟孟特聘副研究员、广东工业大学郑兆强副教授在紫外光电子探测领域取得新进展。 [详细]
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2025-11-25 16:13
应用方案|
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- 客户成果丨华南师范大学《Nanoscale Horizons》：用于高性能逻辑逆变器的二维GeSxSe1-x/SnS2范德华异质结构实现成分可调的反双极性行为
- 在当前科学领域中，逻辑逆变器作为现代大规模集成电路的核心功能单元，其性能直接决定了整个电路系统的运算速度、功耗水平及集成密度。传统硅基CMOS技术因受限于短沟道效应和物理尺寸极限，已难以满足人工智能 [详细]
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2025-11-25 14:41
应用方案|
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- 客户成果丨复旦大学《Advanced Functional Materials》：基于全耗尽T-MoS2MoTe2B-MoS2异质结的高性能偏振敏感光电探测器
- 复旦大学微电子学院王竞立青年副研究员、香港理工大学蒋西西博士、中南大学钟棉增副教授在新型光电探测器领域中取得新进展，该研究成果以《High-Performance Polarization-Sens [详细]
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2025-11-25 14:06
应用方案|
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- 客户成果丨厦门大学《Advanced Materials》：用于互补光电子学和可重构逻辑的WS2自旋谷晶体管中的巨圆二色性
- 近日，厦门大学物理学系宽禁带半导体研究团队吴雅苹教授、吴志明教授、李煦副教授联合南方科技大学陈晓龙副教授，在二维过渡金属硫族化合物（TMDCs）自旋-能谷电子学研究领域取得重要进展。该研究成果以 “G [详细]
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2025-11-25 11:19
应用方案|
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- 客户成果丨新加坡国立大学《Nature Nanotechnology》：超宽带非线性霍尔整流器
- 随着无线通信的快速发展，利用环境无线能量供电已成为一种前景广阔的供能方式。此类系统的核心是整流器，其作用是将射频或微波等高频电磁波转化为直流电能。然而，传统的半导体肖特基整流器受限于门槛电压、寄生电容 [详细]
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2025-11-25 11:12
应用方案|
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- 掩模与无掩模光刻：核心技术原理与适用场景全解析
- 光刻技术作为半导体制造与微纳加工的核心工艺，其发展直接决定了集成电路的性能与集成度。在当今技术路线中，掩模光刻与无掩模光刻分别代表了高效率批量制造与高灵活性定制化生产的两大方向。 [详细]
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2025-11-24 16:04
技术参数|
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- 灰度光刻技术如何重塑微纳制造未来（案例分享）
- 在微纳制造与光学器件领域，灰度光刻（Grayscale Lithography, GSL）作为一种先进的图形化技术，正逐渐成为高精度、多功能微结构加工的核心手段。与传统的二元光刻只能制造“有/无”结构 [详细]
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2025-11-06 15:13
应用方案|
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- DMD无掩模光刻系统在微纳制造中的新进展
- 微纳制造作为现代高新技术产业的核心基石，正不断向更高精度、更复杂三维结构及多功能集成的方向演进。在这一进程中，基于数字微镜器件（DMD）的无掩模光刻技术，凭借其无掩模、高灵活性、低成本的颠覆性优势。 [详细]
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2025-10-29 13:51
应用方案|
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- 高精度光固化DLP 3D打印技术与创新应用前瞻
- 3D打印，亦称增材制造，已从最初的快速原型技术，迭代为能够突破传统制造局限、直接成型复杂结构的数字化制造方案。在此进程中，数字光处理（DLP）技术以其高分辨率、高效率及卓越的材料兼容性，成为实现复杂结 [详细]
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2025-10-14 17:09
技术参数|
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- 微纳加工领域的无掩模光刻技术研究
- 光刻作为一种精密微纳表面加工技术，已广泛应用于微电子学、二元光学、光子晶体、集成电路和纳米技术等领域。极紫外光刻是人类所能达到的精度最Z高的复杂结构微加工技术之一，但是随着微加工特征尺寸的不断缩小 [详细]
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2025-10-11 16:46
工作原理|
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- 微纳加工领域的无掩膜光刻技术研究
- 光刻作为一种精密微纳表面加工技术，已广泛应用于微电子学、二元光学、光子晶体、集成电路和纳米技术等领域。 [详细]
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2025-09-29 17:26
技术参数|
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- 托托科技高精度3D打印设备仪器亮点-驳接打印
- 高精度3D打印阵列电极结构，可通过后续的热解、碳化或电镀等工艺可一步实现导电电极的构造。这一技术为实现高密度、高精度和高性能的微电极阵列制造提供了全新方案，也为神经科学研究和临床应用电极设计生产开辟了 [详细]
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2025-09-16 11:23
产品评测|
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- 解锁更高良率，托托科技无掩模光刻机攻克套刻误差难题
- 套刻误差（Overlay Error）是半导体制造中衡量不同工艺层图形对准精度的关键参数，主要出现在多层芯片结构的光刻工艺中。当前层图形与参考层图形在平面位置发生偏差时，即产生套刻误差。 [详细]
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2025-09-28 14:38
应用方案|
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