「德国Sentech 原子层沉积设备 SI ALD / SI PEALD」价格、参数、图片

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产品特点：

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ALD / SI PEALD，在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度，400/500°C 基板温度

产品详情：

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ALD / SI PEALD

主要特点

·在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度

· 高度均匀的多层堆叠的长期稳定沉积

· 真正的远程 CCP 等离子体源

应用特点

·在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积

· 电子设备的钝化

· 多层沉积

技术特点

· 400/500°C 基板温度

· 300 W，13.56 MHz，CCP 等离子体源

· 4 个带截止阀的前驱体入口

· 直接绘制和起泡线

· 高达 150°C 的壁式加热

· 衬垫

· 560 m3/h 干泵

· 快速节流阀

· 最大 8 英寸晶圆

· 多达 7 条燃气管线

· TP、CCP阀、臭氧管路，实时监控可选

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