「德国Sentech 反应离子刻蚀机 Etchlab 200」价格、参数、图片

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产品特点：

德国Sentech 反应离子刻蚀机 Etchlab 200，最大 8 英寸晶圆，硅及相关材料的蚀刻

产品详情：

德国Sentech 反应离子刻蚀机 Etchlab 200

主要特点

·打开盖子

·可升级

·成本效益

应用特点

·硅及相关材料的蚀刻

·金属溅射

·亚微米蚀刻

技术特点

·600 瓦，13.56 MHz

·360 升/秒涡轮分子泵

·旋转前级泵

·打开盖子

·2-12 根燃气管线

·最大 8 英寸晶圆

·占地面积小

·更多的气体管线，更大的TP、OES、SLI 可选

Etchlab 200 反应离子刻蚀机.png

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