紫外线杀菌消毒台灯QD-UV-01
德国 PVA TePla等离子清洗系统80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus
英国AMBA 曝光灯 AM7977X,AM11353X（AM7000）
SEN UV固化灯HL100G，HL400DL，HL1000DL，SE-1500M
SEN UV固化灯HL100G，HL400DL，HL1000DL，SE-1500M
型 号 |
功 率w |
寿 命H |
全长//发光长 |
详细规格 |
HL100G |
100 |
2000 |
170MM//30MM |
见图纸 |
HL400DL-1 |
400
|
2000 |
220MM//80MM |
见图纸 |
HL1000DL-1 |
1000 |
2000 |
260MM//120MM |
见图纸 |
ML1500DH-3 |
1500 | 2000 |
见图纸 | |
HL2000DL-1 |
2000 |
2000 |
400MM//250MM |
见图纸 |
SE-1500M | 2000 | 见图纸 |
光谱图：
主要应用:
用途:日本SEN研发设计,广泛应用于电路板PCB液晶,镜头,光头/纤/盘,电子零件等UV油墨/胶的快速固化. |
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
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