Pfeiffer 氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏
脉冲激光沉积系统 PLD
脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要.
脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因
PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 因此广泛应用于 PLD 设备检漏.
脉冲激光沉积系统 PLD 检漏客户案例: 上海伯东某客户 PLD 设备用来制备各种材料, 为了保证产品质量, 采购氦质谱检漏仪 ASM 340 搭配使用.
生长多层膜（TiN/ALN）结构, 各层膜厚度可调 | 高通量制备具有不同材料成分的100种材料 | PLD 制备的 Ag 的纳米多孔材料 |
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脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法
采用真空模式检漏, 通过波纹管连接需要检漏的腔体, 设定好需要的漏率值
在怀疑有漏的地方喷氦气（一般需要检漏的部位是焊缝或连接处）,如果有漏,检漏仪会出现声光报警同时在屏幕上显示当前漏率值.
上海伯东推荐 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 三种类型可选
型号 | ASM 340 WET | ASM 340 D | ASM 340 I |
对氦气的Z小检测漏率, 真空模式 | 5E-13 Pa m3/s | 5E-13 Pa m3/s | 5E-13 Pa m3/s |
检测模式 | 真空模式和吸枪mo式 | 真空模式和吸枪mo式 | 真空模式和吸枪mo式 |
检测气体 | 4He, 3He, H2 | 4He, 3He, H2 | 4He, 3He, H2 |
对氦气的抽气速度 l/s | 2.5 | 2.5 | 2.5 |
进气口压力 hPa | 25 | 25 | 5 |
前级泵抽速 m3/h | 油泵 15 | 隔膜泵 3.4 | 不含前级泵 |
重量 kg | 56 | 45 | 32 |
结合了 Pfeiffer 与 Adixen 两家检漏仪的技术优势, 上海伯东德国 Pfeiffer 推出全系列新型号氦质谱检漏仪, 从便携式检漏仪到工作台式检漏仪满足各种不同的应用. 氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏, 利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 PLC. 推荐氦质谱检漏仪应用 >>
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上海伯东: 罗女士 台湾伯东: 王女士
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