脉冲激光沉积系统历史

脉冲激光沉积系统为一种在化学领域进行应用的工艺试验仪器。脉冲激光沉积，又被叫做脉冲激光烧蚀，为一种通过激光轰击物体，之后在不同的衬底上沉淀轰击出来的物质，使沉淀或者薄膜获得的一种手段。

脉冲激光沉积系统历史

早在1916年，受激发射作用的假设就已经被爱因斯坦提了出来。

直到1960年，首次将红宝石棒作为激光媒介的激光器才在休斯实验研究所由梅曼建造出来。

1962年，红宝石激光器被布里奇与克罗斯采用来对固体表面的原子进行汽化与激发。

1965年，红宝石激光器被史密斯与特纳用来对薄膜进行沉积，该实验被当作脉冲激光沉积技术发展的源头。

之后十年，因为激光科技的迅速发展，使脉冲激光沉积技术的竞争能力有了十分显著地提升。相比于早前的红宝石激光器，当时激光的重复频率比较高，实现了薄膜制作。之后问世了可靠的电子Q开关激光，可以使很短的激光脉冲产生。所以脉冲激光沉积技术可以用来将靶一致蒸发，并且使得化学计量薄膜沉积出来。

1987年，高温的Tc超导膜被成功地制作了出来。用来膜制造技术的脉冲激光沉积不但获得了广泛的注意，而且吸引了普遍的赞誉。

过去十年，具备外延特性的晶体薄膜已经能够脉冲激光沉积制作了出来。脉冲激光沉积能够用来制作各种超晶格、金属多层膜、氮化物膜以及陶瓷氧化物。

这些年以来，也有报告指出，利用脉冲激光沉积技术能够对纳米管、纳米粉末以及量子点进行合成。