脉冲激光沉积原理和存在问题

脉冲激光沉积系统为一种在化学领域进行应用的工艺试验仪器。脉冲激光沉积，又被叫做脉冲激光烧蚀，为一种通过激光轰击物体，之后在不同的衬底上沉淀轰击出来的物质，使沉淀或者薄膜获得的一种手段。

脉冲激光沉积原理

脉冲激光沉积系统有着简单的设备，然而其原理却具备十分复杂的物理现象。其对于高能量脉冲辐射对固体靶冲击有所涉及时，激光与物质之间的所有物理相互作用，等离子羽状物的形成也包含其中，在此之后，已熔化的物质从等离子羽状物通过转移到基片表面以及zui后的膜生成过程。因此脉冲激光沉积能够包括以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 在基片熔化物质的沉积

4. 在基片表面薄膜的成核与生成

脉冲激光沉积存在问题

作为一种新生的沉积技术，一些有待解决的问题脉冲激光沉积也是有所存在的。

1、有着比较慢的平均沉积速率，随着淀积材料的差异，对于大约1000方毫米沉积面积，几百纳米到1微米为每小时的沉积厚度的大致范围。

2、由于激光薄膜制备设备的成本和沉积规模的限制，到目前为止，其仅在微电子技术、传感器技术、光学技术等高技术领域及新材料薄膜开发研制方面适用。

3、对相当多材料，熔融小颗粒或靶材碎片包含于沉积的薄膜中。此为在激光引起的爆炸过程中喷溅出来的。这些颗粒的存在使得薄膜的质量大大地降低了，实际上，此才是脉冲激光沉积系统迫切需要解决的关键问题。