美国Lake Shore Microscopy显微光学超导磁体系统
美国Lake Shore Room temperature bore室温孔超导磁体
美国Lake Shore OptiMag湿式超导磁体系统
美国Lake Shore 无液氦超导磁体系统-DryMag
美国Lake Shore SuperOptiMag湿式超导磁体系统
BlueWave是一家著 名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
1、脉冲激光沉积系统
产品特点
超高真空不锈钢腔体 •可集成热蒸发源或溅射源 •可旋转的耐氧化基片加热台 | •流量计或针阀精确控制气体流量 •标准真空计 •干泵与分子泵 •可选配不锈钢快速进样室 | •可选配基片-靶材距离自动控制系统 •是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的zui佳设备 |
2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）
产品特点 •超高真空不锈钢腔体 •电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成 •独立衬底加热，可旋转 •多量程气体流量控制器 •标准气压计 | •机械、分子、冷凝真空泵 •可选不锈钢快速进样室 •衬底和源距离可控 •可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 |
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3、热化学气相沉积系统（TCVD）
 | 产品特点 •高温石英管反应器设计 •温度范围：室温到1100度 •多路气体精确控制 •标准气压计 •易于操作 | •可配机械泵实现低压TCVD •可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 •液体前驱体喷头 •2英寸超大wan美温度均匀区 |
4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）
产品特点： •水冷不锈钢超高真空腔 •热丝易安装、更换 •4个不同量程气体控制器 •标准气压计 •衬底与热丝距离可调节 •2英寸衬底加热、可旋转 •wan美制备金刚石和石墨烯 |  |
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已咨询1697次样品制备
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已咨询1359次薄膜半导体材料制备系统
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已咨询963次真空镀膜及刻蚀设备
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已咨询237次沉积设备
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已咨询391次日本Seinan
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已咨询382次化学气相沉积（PECVD）
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已咨询885次美国Neocera
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已咨询2284次德国 Sentech
兼容TeslatronPT VTl的3He插件，变温范围300 mK到300K，@350mK制冷功率为50 μW，样品空间直径43 mm，样品置于真空环境。
• 氦循环制冷低温恒温器，样品处于真空环境中 • 样品空间：20 mm × 5 mm (真空环境) • 温度范围：3.4 K ~ 500 K (低温可扩展至 2.7 K) • 温度稳定性：± 0.1 K • 系统降温时间：< 15 分钟 (至 3.2 K)
• 氦循环制冷低温恒温器，样品处于真空环境中 • 样品空间：20 mm × 5 mm (真空) • 温度范围：3.2 K ~ 500 K (低温可扩展至 2.2 K) • 温度稳定性：± 0.1 K • 系统降温时间：< 10 分钟 (至 3.2 K) • 液氦消耗率：< 0.45 L/hr
• 恒温器类型：液氮恒温器（LN2） • 样品空间：20 mm × 2 mm • 适用样品：固体、粉末及颗粒 • 温度范围：77 K 至 500 K • 温度稳定性：± 0.5 K
Microstat系列低温恒温器给用户提供了各类光路设计和光学性能特点的低温样品环境。制冷方式为真空冷媒冷却，可根据温度需求选择液氮或者液氦制冷，温度范围从低于2.2K至500K。
在多数情况下，为确认不同参数之间的相关性，样品分析通常使用多种技术手段。对于AFM和SEM成像技术而言，这意味着在实际操作中需要对完全相同的区域进行对比分析。
OptistatDryTLEX是一款用于光谱学测量的低温恒温器，由配有光学通路的紧凑型恒温器和闭循环制冷机组成，采用顶部换样设计。无需液体制冷剂即可将样品降温至液氦温度，提高了使用便捷性的同时降低了运行成本。配备光学窗口和测量引线拓展选件，可进行原位的光学和电学测量。
营业执照已审核
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