ETD-650MS 高真空磁控溅射仪

真空系统：涡轮分子泵，抽速为300L/s 前级机械泵：抽速为4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量：采用复合真空计监测真空。

ETD-650MS高真空磁控溅射仪参数：

溅射气体：根据实验目的可添加氩气，氮气等多种气体。

溅射靶材：配有直径50mm弱磁靶和直径60的强磁靶。标配靶材为金靶，可配银靶，铜靶，铬靶等多种靶材

溅射电流：电流为0-500mA

极限真空：优于5*10-4Pa

样品仓尺寸：直径180mm，高200mm

样品台尺寸：样品台光纤旋台（可定制）

工作电压：230V,50HZ

需要镀膜的样品

电子束敏感的样品电子束敏感的样品：

主要包括生物样品， 塑料样品等。S EM 中的电子束具有较高能量， 在与样品的相互作用 过程中，它以热 的形式将部分能量 传递给样品。如果 样品是对电子束敏感 的材料，那这种相 互作用会破坏部分 甚至整个样品结构。 这种情况下，用一种 非电子束敏感材料 制备的表面镀层就 可以起到保护层 的作用，防止此类损伤；

非导电的样品：

由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。

新材料：

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