磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢？

磁控溅射镀膜常见故障及解决办法

1.无法起辉

（1）直流电源故障，检查直流电源；

（2）氩气进气量小，检查氩气流量计或加大氩气进气量；

（3）真空室清洁度不够，清洁真空室；

（4）靶材绝缘度不够，检查靶是否与地短路，在通水的情况下，对地电阻应该在 50kΩ以上；

（5）磁场强度不够，检查永磁体是否消磁；

（6）真空度太差，检查真空系统。

2.辉光不稳

（1）电压电流不稳，检查电源；

（2）真空室压力不稳，检查氩气进气量及真空系统；

（3）电缆故障，检查电缆是否连接良好。

3.成膜质量差

（1）基片表面清洁度差，清洁基片表面；

（2）真空室清洁度差，清洁真空室；

（3）基片温度过大或过小，检查温控系统，校准热电偶；

（4）真空室压力过大，检查真空系统；

（5）溅射功率设置不当，检查直流电源，设置何事的设定功率。

4.溅射速率低

（1）氩气进气量过大或过小，观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小，据此调整氩气进气量；检修流量计；

（2）靶材过热，检查冷却水流量；

（3）检查永磁体是否消磁。