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ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

可镀铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

SD-3000型离子溅射仪是一款针对材料、半导体等相关领域特质的一款镀膜仪，主要可镀金、银、铂等材料，特点：镀膜牢固，均匀

SD-900M镀膜仪为一款磁控溅射镀膜仪，特点为镀膜环境为冷溅射。适用对温度敏感的材料。溅射均匀、快速

SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更...

SD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，离子溅射仪，喷金仪旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅...

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致，机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，...

主要应用于ETD系列离子溅射仪

主要应用于ETD系列离子溅射仪

主要应用于ETD系列离子溅射仪

主要应用于ETD系列离子溅射仪

用于ETD系列热蒸发仪

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