VTC-600GD高真空磁控溅射仪
VTC-600GD高真空磁控溅射仪
VTC-600GD高真空磁控溅射仪
VTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪
VTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪
磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。
| 产品名称 | 磁控溅射卷绕镀膜机 | |
| 主要参数 | 卷膜条件 镀膜材料:PET 和无纺布 适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。 基材厚度:125~300μm 有效镀膜宽幅:≤800 mm ZD卷绕直径:Φ400 mm 卷绕芯轴内径:4 寸 基材卷绕速度:1~2 m/min 基材卷绕张力:30 ~ 200 N 张力系统:交流伺服 溅镀方式:单面 真空条件 极限真空(空载、洁净):8×10-4Pa 恢复真空时间(空载、清洁):105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min 系统真空漏率:1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控溅射阴极数量:3 个 膜均匀性偏差:≤±10% | |
报价:面议
已咨询381次磁控溅射镀膜
报价:面议
已咨询610次日本ULVAC
报价:面议
已咨询972次脉冲激光沉积系统
报价:¥2500000
已咨询4044次仪器
PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑,占地面积小适合高校实验室及科研院所。
CCU-010 镀膜机提供两种款型。CCU- 010 LV低真空镀膜机,CCU- 010 HV 高真空镀膜机。采用模块化概念,便于以后把低真空镀膜机转变为高真空镀膜机。
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