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江苏磐石小型磁控溅射镀膜机
- 品牌：江苏磐石
- 型号： PS-CK200
- 产地：江苏 徐州
- 供应商报价：￥376000
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磐石创新(江苏)电子装备有限公司
更新时间：2024-03-21 14:17:51 -
销售范围售全国
入驻年限第4年
营业执照已审核
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产品特点
- PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑，占地面积小适合高校实验室及科研院所。
详细介绍
设备简介
PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑，占地面积小适合高校实验室及科研院所。
环境要求
供电：AC220V，功率≥20KVA
独立地线：＜3Ω，从设备到地线连接建议采用≥10mm2 的扁平铜线
供水：流量≥10L/min 水温0～25℃
室温：＜30℃
相对湿度：＜75%
高纯氩气
室内无腐蚀易燃、易爆、有毒气体，无大的尘埃。技术参数
真空室尺寸（内径X高） Ф200×200mm 极限真空 2X10-4 Pa 恢复工作真空 从大气抽至8X10-4 Pa,≤40min 工作真空 ≤6X10-1Pa 升压率 ≤8X10-1Pa/h 基片架旋转速度 2～20rpm可调 靶-片距 80～120mm 真空系统 分子泵：FF63/80 型 62 L/S 机械泵：TRP-12型 3L/S 总功率 20KVA 设备占地尺寸 800X800 相关产品
沪公网安备 31011502008050号