可以定制，根据工艺需求，也可设计成炉体移动或者真空系统移动的方案。12个月质保期。

不均匀性低于1%； 阳极氧化铝腔体； 小反应腔体容积确保快速的循环时间并提高质量； ZD可支持4英寸基片； Z多支持4路50cc/100cc前驱体源； 高深宽比结构的保形生长。

PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑，占地面积小适合高校实...

GASS立式甩干机是高洁净度冲洗甩干设备, 具有高洁净冲洗，高速甩干，快速烘干，效率高的特点，不同晶圆尺寸，可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，设备本身有单腔室和双腔室2种结构，体型...