VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

主要特点

1、配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

技术参数

1、电源电压：220V 50Hz

2、总功率：2KW

3、极限真空度：< ?E-6mbar（配合本公司设备使用可达到?E-5mbar）

4、工作温度：室温-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）

5、靶枪数量：2个（可选配其他数量）

6、靶枪冷却方式：水冷

7、靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）

8、直流溅射功率：500W（可选）

9、射频溅射功率：300W/500W（可选）

10、载样台：Φ140mm

11、载样台转速：1-20rpm内可调

12、保护气体：Ar、N₂等惰性气体

13、进气气路：质量流量计控制2路进气，每个流量为100SCCM

产品规格

主机尺寸：500mm×560mm×660mm

整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

标准配件

1、直流电源控制系统

2、射频电源控制系统

3、膜厚监测仪系统

4、分子泵（德国进口）

5、冷水机

6、冷却水管（Φ6mm）

7、靶材（不锈钢靶、陶瓷靶）

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材