Hitachi Q300T D/T Plus 大型样品仓多靶材料离子溅射仪

Q300T D Plus大腔室、多功能、高真空双头离子溅射镀膜仪

Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，可以顺序溅射两种金属而其间无需破真空。用户自定义抽真空程序、溅射时间、溅射循环次数、溅射电流等工作参数，全自动运行。通过两靶间循环镀膜程序，可实现两种靶材无限层不同厚度的顺序镀膜。当不使用时，靶材会被挡板遮挡以防止污染。基材样品可用不氧化金属（贵金属）如金（Au）铂（Pt）镀膜，也可用铱（Ir）镀制具有精细成膜颗粒结构的膜层。由于具有高真空系统及挡板装置，Q300T D Plus也能用易氧化材料如铬（Cr）及铝（Al）等镀制精细膜层。Q300T D Plus标配铬（Cr）靶和金（Au）靶。

有关采用三靶镀制大面积相同材料的膜层，请参阅Q300T T Plus。其它大腔室镀膜仪，请参阅K975X/K975S以及Q300T ES Plus。

仪器特点：

•   电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用

•   用户界面软件全面更新，使用现代智能手机技术界面

•   全面的文字帮助页面

•   USB接口可轻松进行软件更新，也可将配方文件备份/复制到USB存贮器

•   log文件格式为.csv，内含日期、时间和工作参数，可导出至Excel或类似软件中分析

•   允许多用户输入和储存镀膜方案，并可根据近期的使用情况来排列每个用户的配方

•   双核ARM处理器，可实现快速响应的显示；带触摸屏按钮的全图形界面，包括近期使用的1000个镀膜日志和维护到期时的提醒等功能

•   可拆卸式玻璃腔室，容易清洁底座和顶板，设有防爆罩。如有必要，用户可以快速更换腔室，以避免敏感样品的交叉污染。

高腔室选项可避免样品过热，提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品

•   双头溅射-适用于顺序溅射镀膜；磁控冷溅射，脉冲清洁用于溅射Al（铝）

•   可选的双膜厚监控附件（FTM）

•   大而多色的LED指示灯，实现可视化状态指示；程序完成后具有音频声音提示

推荐应用：

•   理想的多层溅射镀膜应用

•   粘附研究

•   无需破真空即可实现两种金属的顺序镀膜。例如，先镀一层薄的“晶种”铬（Cr）层，然后镀金（Au）

•   亦可选择其中一个靶头，实现单金属应用

•   可溅射各种易氧化和非易氧化金属，用于薄膜和电子显微镜应用

Q300T D Plus是英国Quorum出品的国际认可的Q系列镀膜仪的一部分，数千家客户使用此类镀膜仪。

Q系列旨在为SEM、TEM和薄膜应用提供高质量的镀膜解决方案，Q系列功能多样、价格合理且易于使用。这些产品科研用途。

Q Plus系列镀膜仪也有较小腔室的版本，请参阅：Q150R Plus、Q150T Plus以及Q150V Plus；SC7620和Q150GB也是可选的型号。