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日立高新磁控溅射器MC1000

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产品特点

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够Z大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

详细介绍

产品介绍:

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够zui大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的zui大样品直径:60 mm

  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的zui大样品高度:20 mm

 

特点:

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)

  • 记忆功能可存储常用加工条件


规格:

25.jpg


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