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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间:2026-04-24 06:42:04

半导体行业

(共290件相关产品信息)
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产品分类:
更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 激光刻蚀机 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    纳克微束 离子溅射仪ISC-1000

    纳克微束 ISC-1000 北京 大兴区
    纳克微束(北京)有限公司
    纳克微束离子溅射仪ISC-1000采用高性能旋片泵快速产生一个<1-2Pa的真空压强,通常真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,以确保恒定镀膜沉积速率。

    离子溅射仪

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    TC Wafer热电偶晶圆测温系统 晶圆硅片测温热电偶 光刻机晶圆温度测量系统

    智测电子 TC-Wafer 上海 徐汇区
    上海智与懋检测仪器设备有限公司

    激光刻蚀机

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    善准科技等离子刻蚀机VP-RS15

    善准科技 VP-RS15 广东 广州
    广州善准科技有限公司
    VP-RS15等离子刻蚀机补充国内技术空白(真空不锈钢腔体等离子清洗装置),真空腔体不锈钢材质,功率500W,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行3分钟,腔体温度不高于45℃,不损伤样品,适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

    电子束刻蚀系统

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    紫外曝光机/光刻机

    德国suss MA6/BA6 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    $10000

    108进口离子溅射仪

    天泽智能 108 天津 东丽区
    天泽智能科技发展(天津)有限责任公司
    108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。 l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和ZJ的镀膜效果。 可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。

    离子溅射仪

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    ¥554

    NMC ICP反应离子刻蚀机

    北京华测 NMC ICP 美洲 美国
    北京华测试验仪器有限公司
    反应离子刻蚀机主要用于介质薄膜干法刻蚀,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等

    电子束刻蚀系统

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    离子束刻蚀系统

    北京华测 ADVANCED 美洲 美国
    北京华测试验仪器有限公司

    离子束刻蚀系统

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    原子层沉积系统AT-410

    美国ANRIC AT-410 美洲 美国
    武汉迈可诺科技有限公司
    原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。

    原子层沉积系统

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    ¥1

    反应离子刻蚀机PlasmaStar 200

    美国AXIC PlasmaStar 200/200RIE 美洲 美国
    武汉迈可诺科技有限公司

    电子束刻蚀系统

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    等离子刻蚀机PlasmaStar 100

    美国AXIC PlasmaStar 100/100RIE 美洲 美国
    武汉迈可诺科技有限公司

    电子束刻蚀系统

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    M系列光束笔尖阵列光刻系统

    Tera print M 美洲 加拿大
    北京培科创新技术有限公司
    聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率,可应用于纳米粒子合成,蛋白阵列,单细胞排布,纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统,PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。

    激光刻蚀机

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    分子束外延系统

    北京中科艾科米 MBE550 北京 怀柔区
    中科艾科米(北京)科技有限公司
    ●样品尺寸:4英寸基片向下兼容 ●10个源炉接口,其他数量可定制 ●具有快速进样及传样的特点;最多暂存5片样品,其他数量可定制 ●兼容SPM、RHEED、QCM、BFM等多种原位生长表征和监测手段 ●全自动化生长系统,可对各腔体真空泵实施操作、可控制各互联腔体插板阀、可进行工艺编程及实时监控系统状态;19寸触控式总控屏幕 ●集成化水电气模块,便于后期维护

    分子束外延系统

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    上海沛沅CCP等离子刻蚀机

    上海PLUTOVAC WINETCH 上海 浦东新区
    上海沛沅仪器设备有限公司
    上海沛沅CCP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。

    电子束刻蚀系统

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    上海沛沅ICP等离子刻蚀机

    上海PLUTOVAC WINETCH 上海 浦东新区
    上海沛沅仪器设备有限公司
    上海沛沅ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。

    电子束刻蚀系统

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    德国SENTECH ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机

    德国Sentech ICP/ RIE 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司
    仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

    电子束刻蚀系统

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    英国Durham小型台式无掩膜光刻机-Microwriter ML3

    英国Durham Magneto Optic Microwriter ML3 欧洲 英国
    香港壘為信息科技實業有限公司
    小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便GX的微加工方案。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    德国SUSS 紫外光刻机 MJB4

    德国suss MJB4 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司
    该设备配备可靠的在亚微米级高度精密的对准以及高分辨光刻系统。具备顶部对准系统和衍射减小光学系统。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    德国SUSS LabSpin6/ LabSpin8 匀胶机

    德国suss LabSpin6/ LabSpin8 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司

    匀胶机

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    英国 SPTS深硅刻蚀机/等离子刻蚀机

    英国SPTS SPTS-01 欧洲 英国
    香港壘為信息科技實業有限公司
    SPTS能为客户提供一系列的先进的工艺,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的高端封装(3D封装和芯片级封装)。

    电子束刻蚀系统

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    芬兰Picosun ALD原子层沉积系统

    芬兰Picosun Picosun ALD 欧洲 芬兰
    香港壘為信息科技實業有限公司

    原子层沉积系统

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    常压等离子体表面处理仪

    RP RP3 欧洲 德国
    北京中海时代科技有限公司
    生产可控性强,品质一致性好 易于CAN BUS通信控制系统集成 显著提高产品的表面预处理质量 不损害基体表面情况下改善活化性能 全程干燥处理,无需化工溶解剂和水

    等离子体表面处理仪

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    原子层沉积系统

    北京中科艾科米 ALD-V401 北京 怀柔区
    中科艾科米(北京)科技有限公司
    ● 样品类型:粉体样品,旗形样品,其他样品类型可定制 ● 可与超高真空XPS,STM,及其他UHV系统互联 ● 腔体最高加热400℃,控温精度±1℃ ● 复杂管气路,可最多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气 ● 设计独特的高温鼓泡器,可提高低蒸气压固态源反应效率和重复性 ● 自动化控制系统,可自行编程实现不同类型ALD样品生长 ● 控制系统带安全互锁报警功能 ● 采用PID自动控温,带模糊算法自整定 ● 全金属密封,适用于腐蚀性反应 ● 实时测控气体流量和监测真空度 ● 在线原位分析气体成分 ● 自带臭氧发生器,反应残留物热分解装置

    原子层沉积系统

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    桌上型激光直写光刻系统Dilase 250

    克劳伊 Dilase 250 欧洲 法国
    浙江扬清芯片技术有限公司
    主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20

    激光刻蚀机

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    URE-2000/35型紫外曝光光刻机

    扬清芯片 URE-2000/35 浙江 杭州
    浙江扬清芯片技术有限公司
    创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    微流控小巧型匀胶机EZ4-S-PP

    扬清芯片 EZ4-S-PP 浙江 杭州
    浙江扬清芯片技术有限公司
    T*P1:功能清晰,易操作 文本显示器,中英文可选;清晰的功能按键;手套箱过渡舱内进出。 TOP2:材料先进,耐腐蚀 易清洁注塑内腔;HDPE材料真空吸盘;耐溶剂PC涂层盖。 TOP3:设计合理,性能稳定 75W直流无刷电机,单片机控制;不易进胶堵胶设计;旋涂内腔易拆卸清理更换。

    匀胶机

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等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。,与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。

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应用方案

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行业资料

5994-4747ZHCN-安捷伦半导体行业解决方案 半导体行业中的超纯水质控 短波红外相机在半导体行业的应用 特氟龙在半导体行业的主要应用 电子半导体行业0.1微米颗粒检测方案 NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质 TOC在电子,半导体和电子行业的应用 表面微粒分析仪P-III:半导体行业的微观洞察利器 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用 NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

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