英国Durham小型台式无掩膜光刻机-Microwriter ML3

托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro

步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm

中芯热成精密光刻机

本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

湿法工艺晶圆温度测量系统 光刻机晶圆温度测量系统

荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机

荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

DaLI无掩膜纳米光刻机

采用AOD激光操控技术，光斑定位精度优于1nm，高精度套刻对准，结构边缘超平滑，可轻松构建1微米以下线宽结构。 先进的AOD激光操控技术，使得DaLI具有超高的激光定位精度（优于1nm），超长的有效寿命，以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。

桌上型激光直写光刻系统Dilase 250

主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20

URE-2000/35型紫外曝光光刻机

创新采用三柔性支点实现高精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。