Substrates
LabSpin 6: up to 150mm round or 100mm square substrates
LabSpin 8: up to 200mm round or 150mm square substrates
Motor
Brushless E-motor with collection glass beaker
Spin speed: min 50 rpm
max 8000 rpm (with 200mm chuck)
Acceleration: max 3000 rpm/s
Controller
Graphical User Interface: Touch panel with color display
Number programmable recipes: max 200
Step number per recipe: max 40
Loop function: repeats a set of process step
Coater Options
Cover plate for additional functions
Resist dispense systems
Pressurized syringe dispense
Full automatic dispense system
Edge Bead Removal (EBR)
Developer Options
Cover plate for additional functions
Developer dispense option
DI-water dispense option
Nitrogen Drying option
报价:面议
已咨询3533次半导体参数分析仪
报价:面议
已咨询3720次半导体参数分析仪
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已咨询576次光刻设备
报价:面议
已咨询2498次瑞士 Sawatec
报价:面议
已咨询2415次光刻机
报价:面议
已咨询3632次光刻机
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已咨询676次实验室常用设备
报价:面议
已咨询272次旋转涂膜匀胶机
1. 产品简介 WH-SC-01匀胶机适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻的半导体工艺、制版、及表面涂覆等工艺,由汶颢股份自主研发,具有独立知识产权。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点,并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。 匀胶机具有快速启动、快速切换转速和转速稳定的性能,能够保证胶膜厚度的一致性和均匀性。采用全触摸屏控制,实现启/停可控,转速实时观察、三档转速可来回切换等功能,启动后在低速下进行匀胶,再切换至高速下进行甩胶,转速及相应的时间分别可调; 仪器配置了“安全开关”按钮,仪器运转时,上盖处于关闭状态,一旦上盖打开,将触发“安全开关”,仪器停止运转,起到保护作用。 2. 技术参数 转速:硅片4英寸(含)以内300-8500RPM;4英寸以上300-6000RPM 时间控制:1-32767s 转速稳定性:±1% 胶的均匀性:±3% 参数设定:触摸屏设置参数 适用于φ28至φ200mm硅片及其它材料等匀胶 电源输入:AC220V±10V,50HZ 功率:60W 重量:13kg 外形尺寸:300(W)*227(H)*350(D) 工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。
英国Ossila公司匀胶机,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。
T*P1:功能清晰,易操作 文本显示器,中英文可选;清晰的功能按键;手套箱过渡舱内进出。 TOP2:材料先进,耐腐蚀 易清洁注塑内腔;HDPE材料真空吸盘;耐溶剂PC涂层盖。 TOP3:设计合理,性能稳定 75W直流无刷电机,单片机控制;不易进胶堵胶设计;旋涂内腔易拆卸清理更换。
英国Ossila公司匀胶机,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到wan美的旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象,影响涂层的均匀性。广泛应用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺。
CIF匀胶机转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。