「Nanonex光刻机」价格、参数、图片

产品详情：

Lumina-200 多功能高精度光刻机
Lumina-200高分辨率光刻机加对准系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。Lumina系列是一款具有高性能，高可靠性，高性价比，兼具接触和近程光刻的高分辨率，高对准精度全功能光刻机和模板基板对准机。Lumina系列在电子，光电子，MEMS，生物芯片等诸多领域都有广泛应用。Lumina-200具有的用户界面，高精度的机械平台，高精度光学，紧凑的系统设计。
主要特点：

高光刻分辨率；高精度对准机械平台；zuixin高精度对准光学系统；精确的间距控制

的计算机用户界面；紧凑的系统设计；高性价比设计；可附加背面对准功能

应用：

半导体器件；光电子器件；MEMS；高端封装；功率器件

生物芯片

基于超过12年、15代产品开发经验的自动化操作

Nanonex经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定
系统参数：

主平台

手动控制 X-Y-；马达控制 Z；
调节范围：X和Y：1英寸；：10度；Z：0.25英寸

模板加载能力

5”标配模板；其他尺寸可提供

基板加载能力

4”标配基板；其他尺寸可提供

对准模式

近程，软，硬接触

对准光学

分场光学；5X物镜，1到7X ZOOM；2轴独立手动X,Y,Z显微镜调节

粗略和精细对焦；通过CCD相机成像

曝光系统

紫外：水银灯G或I线可选；紫外灯功率：500瓦

均匀紫外曝光；马达带动紫外光源

你可能还关注：

您可能感兴趣的产品

Nanonex光刻机

报价：面议
已咨询2891次
Nanonex纳米压印光刻机

报价：面议
已咨询3860次
紫外曝光机/光刻机

报价：面议
已咨询5984次

半导体参数分析仪
Nanonex Lumina-200

报价：面议
已咨询856次

材料处理
Nanonex Lumina-200

报价：面议
已咨询878次

纳米科学
紫外曝光机/光刻机

报价：面议
已咨询4578次

半导体参数分析仪
光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner) M-100

报价：面议
已咨询1110次

光刻机
光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)

报价：面议
已咨询10864次

上海富格贸易有限公司为你提供Nanonex光刻机信息大全，包括Nanonex光刻机价格、型号、参数、图片等信息；如想了解更多产品相关详情，烦请致电详谈或在线留言！: 移动端：Nanonex光刻机

同厂商产品

您可能还在找

新品推荐: 托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro

步进式光刻更高的精度激光主动对焦 6 英寸加工幅面特征尺寸0.4 μm; 中芯热成精密光刻机

本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。; 湿法工艺晶圆温度测量系统光刻机晶圆温度测量系统; 荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机; 荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机; DaLI无掩膜纳米光刻机

采用AOD激光操控技术，光斑定位精度优于1nm，高精度套刻对准，结构边缘超平滑，可轻松构建1微米以下线宽结构。先进的AOD激光操控技术，使得DaLI具有超高的激光定位精度（优于1nm），超长的有效寿命，以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。; 桌上型激光直写光刻系统Dilase 250

主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20; URE-2000/35型紫外曝光光刻机

创新采用三柔性支点实现高精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。