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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间：2026-04-24 06:41:54

半导体行业

（共290件相关产品信息）
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产品分类：
更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 激光刻蚀机 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    CIONE系列Mini 等离子反应离子刻蚀机

    韩国Femto Science CIONEMini 亚洲 韩国
    深圳市科时达电子科技有限公司

    电子束刻蚀系统

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    匀胶机 BASIXX ST20+

    德国Osiris BASIXXST20+ 欧洲 德国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    BASIXX ST20+（?200毫米）台式旋涂机，带电动介质臂BASIXX ST20（?200毫米）台式旋涂机BASIXX ST20+ 实验室台式匀胶机是一款紧凑的旋涂，显影，清洁和干燥半自动系统，旨在为科学和研究领域的用户提供高效，安全和清洁的实验室系统。

    匀胶机

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    有机太阳能电池匀胶机 WS-650Mz-23N

    美国劳瑞尔 WS-650Mz-23N 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    匀胶机产品特点: 1、稳定的转速和快 速启动，可保证胶厚度的一 致性和均匀性；2、转速在12000转/分范围内稳定，美国国家标准 技 术研究院（NIST）认 证过；3、采用PLC控制，速度可调节，在启动之后一般工艺先以低速运转使胶摊开，然后自动变到高速运转，步骤转速及相应的时间分别可调； 4、数据模拟：匀胶实验时将一组设定的涂胶速度和时长数值输入系统，系统会据此计算出速度设定方案。

    匀胶机

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    小巧经济型匀胶机 OS-E461

    深圳科时达 OS-E461 广东 深圳
    深圳市科时达电子科技有限公司
    涂是一种广泛使用的多功能技术，用于将材料沉积到基材上，从而获得精确可控的薄膜厚度。该款匀胶旋涂仪价格实惠，操作简单，结构小巧紧凑，占地空间小，为实验室提供了理想的解决方案。该款匀胶旋涂仪采用创新ZL设计的托盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果；内置调整水平装置，ZD限度的保证旋涂均匀；可对大小不同规格的基片进行旋涂。

    匀胶机

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    美国FALD原子层沉积系统 AT-600

    深圳科时达 FALDAT-600 广东 深圳
    深圳市科时达电子科技有限公司
    原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

    原子层沉积系统

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    美国恩科优N&Q系列光刻机4008

    美国恩科优 N&Q4008 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ400-8产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    美国恩科优N&Q系列光刻机8006

    美国恩科优 N&Q8006 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ800-6产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    荷兰4PICO 激光直写光刻机 PicoMaster200

    荷兰4PICO 4PICOPicoMaster200 欧洲 荷兰
    深圳市科时达电子科技有限公司
    PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界ZJ实力的成套全息设计软件●ZD230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建ZG自由度的微结构而设计。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    荷兰4PICO 大幅面无掩模激光直写光刻机PicoMaster XF 500-H

    荷兰4PICO 4PICOPicoMasterXF500-H 欧洲 荷兰
    深圳市科时达电子科技有限公司
    PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    美国 那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机

    美国Nano-Master -NRE-3500(A)RIE 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持ZD到12"的晶圆片。

    电子束刻蚀系统

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    NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统

    美国Nano-Master NPE-3500PECVD 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到ZD可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。

    气相沉积系统

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    德国SUSS热板/显影机/匀胶机

    德国suss HP8 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司

    匀胶机

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    等离子增强原子层沉积系统

    原速 PEALD E200SP 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障。

    原子层沉积系统

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    热法原子层沉积系统

    原速 Thermal-ALD E200S 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障

    原子层沉积系统

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    离子溅射仪 NSC-3000（M）磁控溅射系统 那诺-马斯特

    美国那诺-马斯特 NSC-3000（M） 美洲 美国
    那诺—马斯特中国有限公司
    带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    离子溅射仪

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    超高真空集成原子层沉积系统

    原速 UHV ALD 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学 显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停

    原子层沉积系统

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    手套箱集成原子层沉积系统

    原速 Glove Box Integrated 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障。

    原子层沉积系统

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    磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机 那诺-马斯特

    美国那诺-马斯特 NSC-4000 美洲 美国
    那诺—马斯特中国有限公司
    先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关，RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

    磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪

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    匀胶机WS-650Mz-8NPP

    美国劳瑞尔 WS-650Mz-8NPP 美洲 美国
    武汉迈可诺科技有限公司

    匀胶机

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    粉体包裹原子层沉积系统

    原速 PA 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    真空测量采用多真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障

    原子层沉积系统

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    感应耦合等离子刻蚀机 STS Multiplex ICP

    STS Multiplex ICP 欧洲 英国
    上海迈铸半导体科技有限公司

    电子束刻蚀系统

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    大尺寸原子层沉积系统

    原速 Thermal-ALD E300S 广东 深圳
    北京正通远恒科技有限公司
    真空测量采用双真空压力计组合方式，工艺数据更真实，更迅速，更精确，为工艺人员提供井真的数据采集来源，为工艺的可重复性提供了可靠的保障

    原子层沉积系统

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    CIF-匀胶机

    CIF SC1/2/MSC 河北 承德
    华仪行（北京）科技有限公司
    CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。

    匀胶机

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    Ossila匀胶机

    欧西拉Ossila L2005 欧洲 英国
    华仪行（北京）科技有限公司
    英国Ossila公司匀胶机，操作简单，方便实用，旋涂均匀，结构小巧紧凑，为实验室提供了理想的解决方案，其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果。可对大小不同规格的基材都可进行旋涂，尤其是对超薄样品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到wan美的旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象，影响涂层的均匀性。广泛应用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺。

    匀胶机

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    ￥888

    离子溅射仪

    天泽智能 TZZN-1000 天津 东丽区
    天泽智能科技发展（天津）有限责任公司
    整体含溅射主机和真空系统组成，溅射靶头被设置成为一个二级溅射结构，通过均匀恒定的电场激发并电离气体分子，形成稳定的辉光放电现象，被电离的离子和电子在这个电场下进行加速，从而使靶原子逃离靶材表面在样品上面形成纳米涂层 配套世界主流扫描电子显微镜厂家： 热电（美国原荷兰）FEI钨丝阴极、场发射、飞纳台式等各类型电子显微镜，蔡司（德国）钨丝阴极、场发射各系列的扫描电子显微镜，JEOL（日本电子）各类电镜，日立（日本）各系列电镜、台式电镜，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列电镜，还有如韩国“赛科”、COXEM库赛姆、MIRERO等电镜品牌及所有需要样品前期处理，提高成像质量、增强导电性能等表面镀膜处理的样品制备工作。

    离子溅射仪

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郑科探等离子刻蚀机清洗机去胶机

等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。

中芯热成精密光刻机

本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

湿法工艺晶圆温度测量系统 光刻机晶圆温度测量系统

荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机

荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

应用方案

光学显微镜应用于电子半导体行业 半导体行业 | 测量如何“见微知著”？ 半导体封装行业的热分析应用 半导体行业解决方案之蚀刻液分析 光纤光谱仪在半导体行业的应用 半导体行业精选案例免费领取 半导体行业解决方案之PAG杂质鉴定、溯源 分享 | 半导体行业要求的“快”速检测 透射近红外显微镜在半导体行业的应用 快速温变试验箱在半导体行业的应用

行业资料

5994-4747ZHCN-安捷伦半导体行业解决方案 半导体行业中的超纯水质控 短波红外相机在半导体行业的应用 特氟龙在半导体行业的主要应用 电子半导体行业0.1微米颗粒检测方案 NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质 TOC在电子，半导体和电子行业的应用 表面微粒分析仪P-III：半导体行业的微观洞察利器 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用 NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

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