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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间：2026-04-24 08:14:11

半导体行业

（共290件相关产品信息）
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产品分类：
更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 激光刻蚀机 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    德国海德堡掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400

    德国海德堡 VPG+ 800/1100/1400 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    海德堡掩膜版光刻机 VPG+ 200/400

    德国海德堡 VPG+ 200/400 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    多种数据输入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 网络数据传输 计量校准系统 人工气候室 阶段地图校正 边缘检测器单元 色差校正

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80

    牛津仪器 PlasmaPro 80 欧洲 英国
    似空科学仪器（上海）有限公司
    PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

    电子束刻蚀系统

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    Nanoscribe无掩膜光刻机Quantum X shape

    nanoscribe Quantum X shape 欧洲 德国
    纳糯三维科技（上海）有限公司
    Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术，该系统不仅是快速成型制作的Z佳机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。全新Quantum X shape可以为您打印任何 2.5D 和 3D 微纳结构，提供真正意义上的设计自由度。该系统可实现您各类高纵横比结构。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    SPS 光刻机 POLOS µ

    德国SPS-保罗 POLOS µ 欧洲 德国
    上海迹亚国际商贸有限公司

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    POLOS® BEAM XL桌面无掩模光刻机

    德国SPS-保罗 BEAM XL 欧洲 德国
    上海迹亚国际商贸有限公司
    光掩模光刻可以随意进行纳米图案化，而不需要 缓慢且昂贵的光掩模。 这种便利对于研究和快速 原型制作特别有用。 POLOS® Beam 在不影响 性能的情况下将其带到桌面上，从而补充了现有 的优势。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    ￥500000

    日立 Q300T D/T Plus 大型样品仓多靶材料离子溅射仪

    日立 Q300T D/T Plus 亚洲 日本
    上海睿测电子科技有限公司
    电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用 • 用户界面软件全面更新，使用现代智能手机技术界面 • 全面的文字帮助页面 • USB接口可轻松进行软件更新，也可将配方文件备份/复制到USB存贮器 • log文件格式为.csv，内含日期、时间和工作参数，可导出至Excel或类似软件中分析 • 允许多用户输入和储存镀膜方案，并可根据近期的使用情况来排列每个用户的配方 • 双核ARM处理器，可实现快速响应的显示；带触摸屏按钮的全图形界面，包括近期使用的1000个镀膜日志和维护到期时的提醒等功能 • 可拆卸式玻璃腔室，容易清洁底座和顶板，设有防爆罩。如有必要，用户可以快速更换腔室，以避免敏感样品的交叉污染。高腔室选项可避免样品过热，提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品 • 双头溅射-适用于顺序溅射镀膜；磁控冷溅射，脉冲清洁用于溅射Al（铝） • 可选的双膜厚监控附件（FTM） • 大而多色的LED指示灯，实现可视化状态指示；程序完成后具有音频声音提示

    离子溅射仪

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    ￥500000

    日立 Q150V Plus 高真空离子溅射仪

    日立 Q150V Plus 亚洲 日本
    上海睿测电子科技有限公司
    1） 全新升级的用户界面：电容式触摸屏灵敏度高，更易触控使用 用户界面软件已广泛更新，使用现代智能手机界面技术 上下文相关的全面帮助页面 USB接口可轻松进行软件更新，也可将镀膜程序文件备份/复制到U盘 log文件可通过USB端口导出，文件格式为.csv,便于在Exce或类似软件中分析， log文件包括日期、时间和工作参数。 16GB的闪存可储存超过1000条镀膜程序；双核ARM处理器，可实现快速响应的显示。 2） 允许多用户输入和储存镀膜参数程序，新功能可根据近期的使用情况来排列每个用户的程序。 3） 智能逻辑系统自动识别插入头.并显示相应的操作设置和控制1c 4） 系统提示用户确认靶材，然后自动为该材料选择适当的参数。 5） 直观的软件允许生手或偶用者快速输入和存储其处理参数。为方便起见，系统已存储一些典型的溅射和镀碳程 序，也允许用户创建自己的操作程序。 6） 如果软件检测到在一段时间内无法达到一定真空，在真空泄漏的情况下会终止程序，以防真空泵过热。

    离子溅射仪

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    ￥80000

    瑞奇精密 RQC-2S 全自动磁控离子溅射仪

    瑞奇精密 RQC-2S 广东 深圳
    上海睿测电子科技有限公司

    离子溅射仪

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    ￥40000

    瑞奇精密 RQC-1S 离子溅射仪

    瑞奇精密 RQC-1S 广东 深圳
    上海睿测电子科技有限公司

    离子溅射仪

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    Nanoscribe Quantum X align对准双光子光刻系统

    nanoscribe Quantum X align 欧洲 德国
    纳糯三维科技（上海）有限公司
    高分辨率专利A2PL技术3D打印应用于纳米级精度对准 再光纤和芯片上进行3D打印 纳米级精度3D对准技术 光学级三维打印

    激光刻蚀机

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    Nanoscribe Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统

    nanoscribe Photonic Professional GT2 欧洲 德国
    纳糯三维科技（上海）有限公司
    双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。

    激光刻蚀机

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    1700度高真空CVD化学气相沉积系统

    诺巴迪 NBD-T1700-80TIG2Z（） 河南 郑州
    河南诺巴迪材料科技有限公司

    气相沉积系统

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    LEBO 旋涂仪 EZ6-S灵巧型匀胶机

    雷博 EZ6-S 江苏 无锡
    上海迹亚国际商贸有限公司

    匀胶机

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    ￥1

    EVG101 匀胶机 匀喷胶机 光刻胶处理机

    EVG EVG101 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    EVG101光刻胶处理系统在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圆，可配置为旋涂或喷涂和显影。使用EVG先进的OmniSpray涂层技术，在3D结构晶圆上实现光刻胶或聚合物的共形层，用于互连技术。这确保了高粘度光致光刻胶或聚合物的低材料消耗，同时改善了均匀性并防止了扩散。

    匀胶机

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    EVG770 NT分步重复纳米压印光刻机

    EVG EVG770 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。

    激光刻蚀机

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    EVG620 NT掩模对准光刻机系统

    EVG EVG620 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在蕞小的占位面积上结合了先进的对准功能和蕞优化的总体拥有成本，提供了优于其他品牌的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    HERCULES量产型光刻机系统

    EVG HERCULES 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    光刻机Track系统通过集成的生产系统和结合掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理的高度自动化功能，完善了EVG光刻机产品系列。HERCULES光刻机Track系统基于模块化平台，将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁，光刻胶涂层，烘烤和光刻胶显影模块相结合。

    激光刻蚀机

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    EVG7300多功能紫外纳米压印光刻系统

    EVG EVG7300 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    多功能EVG7300 UV纳米压印光刻系统可以支持多种相关的UV工艺:SmartNIL，晶圆级光学(WLO)和堆叠-三种功能合并在一个灵活的工具中

    激光刻蚀机

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    EVG6200 NT掩模对准光刻系统

    EVG EVG6200 NT 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    特色：EVG 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

    激光刻蚀机

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    OAI - 光刻机

    美国OAI OAI - Mask Aligners & Exposure 美洲 美国
    香港电子器材有限公司
    全面的曝光系统 0.5μ 精确正面对准 1μ 正反面对准 高产量：170 WPH in 1st Mask Mode 均匀性优于 ±3% 适用于各种规格的芯片 自动平衡补偿 适用于超强工艺的重复性要求 亚微米分辨率

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    鼎竑GU-SP2000全自动磁控离子溅射仪

    江苏鼎竑 江苏 泰州
    广州领拓仪器科技有限公司
    高压线多重防护；外壳良好接地；真空互锁; 系统 自动防护性切断溅射；实体按键，很安全

    离子溅射仪

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    鼎竑GU-SP1000 全自动离子溅射仪

    江苏鼎竑 江苏 泰州
    广州领拓仪器科技有限公司
    高压线多重防护；外壳良好接地；真空互锁；系统 自动防护性切断溅射；实体按键，较安全

    离子溅射仪

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    ￥1500000

    EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610

    EVG EVG610 欧洲 奥地利
    岱美仪器技术服务（上海）有限公司
    EVG610支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。

    激光刻蚀机

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    全自动原子层沉积系统(ALD)

    维易科 Firebird 美洲 美国
    香港电子器材有限公司
    Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备。

    原子层沉积系统

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等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。

中芯热成精密光刻机

本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

湿法工艺晶圆温度测量系统 光刻机晶圆温度测量系统

荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机

荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

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光学显微镜应用于电子半导体行业 半导体行业 | 测量如何“见微知著”？ 半导体封装行业的热分析应用 半导体行业解决方案之蚀刻液分析 光纤光谱仪在半导体行业的应用 半导体行业精选案例免费领取 半导体行业解决方案之PAG杂质鉴定、溯源 分享 | 半导体行业要求的“快”速检测 透射近红外显微镜在半导体行业的应用 快速温变试验箱在半导体行业的应用

行业资料

5994-4747ZHCN-安捷伦半导体行业解决方案 半导体行业中的超纯水质控 短波红外相机在半导体行业的应用 特氟龙在半导体行业的主要应用 电子半导体行业0.1微米颗粒检测方案 NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质 TOC在电子，半导体和电子行业的应用 表面微粒分析仪P-III：半导体行业的微观洞察利器 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用 NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

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