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1700度高真空CVD化学气相沉积系统

销售范围售全国

入驻年限第8年

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详细介绍

设备简介：

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；

技术参数：

	系统描述
产品型号	NBD-T1700-80ITG3Z
工作温度	≤1650℃
加热区尺寸	310mm
恒温区尺寸	220mm
升温速率	≤20℃/min
电气规格	AC 220V 4.5KW
温区位置显示	将设备温区直接在设备壳体上显示出来，便于客户在合适的位置上放置样品
控制系统
气体系统（可根据需求搭配）	流量计类型	浮子流量计				质量流量计
	管道示意图
	进气接口数量	2、3、4（多路可选）
	流量范围	20-200/60-600l/min(多量程可选)				50/100/200sccm(多量程可选)
	工作压差范围	0-0.15MPa
低真空系统（可根据需求搭配）	真空泵型号		NBD-1.5C		NBD-3C		NBD-4C
	抽气速率		1L/s		3L/s		4L/s
	进排气口尺寸		Φ8mm宝塔接头		Φ8mm宝塔接头		KF16/25
	极限压力		1000Pa		100Pa		10Pa
	工作温度		5-40℃
	电气规格		AC220V
分子泵高真空系统（可根据需求搭配）	分子泵系统型号		NBD-103(A)		NBD-103(B)		NBD-103(C)
	抽气速率		110L/s		600L/s		700L/s
	真空测量计		复合真空计
	极限压力		10^-3Pa		10^-4Pa		10^-5Pa
	工作温度			5-40℃
	电气规格			AC 220V	AC 220V			AC 380V
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询。