| 设备简介: 化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域; |
配置详情
| NBD-101E嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,非线性式样温度修正; | |||||||||
产品型号 | NBD-T1700-XTIG2Z | NBD-T1700-XTIG2Z | NBD-T1700-XTIG2Z | |||||||
炉管尺寸 | Φ50*1000mm | Φ60*1000mm | Φ80*1000mm | |||||||
工作温度 | ≤1650℃ | |||||||||
加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
电气规格 | AC 220V 4.5KW | |||||||||
气体系统(可选购) | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4(多路可选) | |||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min (多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | |||||||||
低真空系统(可选购) | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | ||||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | |||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | |||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC220V | |||||||||
高真空系统(可选购) | 真空泵型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | ||||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | |||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | |||||||
* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询。 | ||||||||||
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立式八通道管式炉是一种设计用于同时处理多个样品或连续物料的高温处理设备,广泛应用于材料科学、化工、冶金、纳米材料制备、陶瓷烧结、催化研究等领域。 拥有八个平行的加热管状腔体通道,可以独立或同时进行加热实验,提高实验效率和吞吐量,同时也允许进行对比实验以提高数据的可靠性和重复性。
本设备提供了在真空或者气氛环境下烧结的环境,所有操作均在触摸屏上完成,方便了客户的操作。本设备为高温旋转炉,炉管采用的是新型氮化硅结合碳化硅制品,具有优异的抗氧化性能, 良好的耐磨性能以及对金属溶液的抗腐蚀性能,是一种新型结构陶瓷材料,为高温物料的烧结提供了稳定的环境。
通过高精度氧分析仪确保无氧工作环境。物料在基于旋转摆振结构的石英腔内,能够在稳定均匀的温场内,Z大程度地与反应气体充分接触。独有悬挂式气相发生器,能够在工作腔摆振的同时,始终保持水平稳定输出。多路质量流量控制器,可精确控制气体流量。高灵敏度压力传感器及电磁阀可保证工作腔室内的压力始终在设定范围。易燃易爆及有毒有害气体检测仪与设备联动。
NBD-CVD1200系列一体机可以实现真空高温化学气相沉积,适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等试验。