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生长纳米线CVD炉

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详细介绍

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉,专为生长各种纳米线而设计,基片ZD3″。在法兰的左侧装有一个小加热器,可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。
2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。
3、带样品支架的右法兰是滑动的,方便样品的快速取放。
4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热,不锈钢加热腔外径30mm、长150mm,ZG工作温度600℃。
5、左边法兰(在加热器与CVD炉之间)装有4个1/4″卡套连结的通气管,具有密封和气体通道的作用。
6、PID自整定数字控制器,可以设置30段升降温程序。
7、选配相关软件可用计算机进行控温。
8、已通过CE认证。

产品型号

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。

2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3、带样品支架的右法兰是滑动的,方便样品的快速取放。

4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热,不锈钢加热腔外径30mm、长150mm,ZG工作温度600℃。

5、左边法兰(在加热器与CVD炉之间)装有4个1/4″卡套连结的通气管,具有密封和气体通道的作用。

6、PID自整定数字控制器,可以设置30段升降温程序。

7、选配相关软件可用计算机进行控温。

8、已通过CE认证。

技术参数

1、额定电压:单相AC 220V 50Hz/60Hz

2、额定功率:3KW(需20A的空气开关)

3、石英管:外管外径Ø110mm,内径Ø102mm,长381mm

4、加热区域:CVD炉400mm,加热器150mm

5、工作温度:CVD炉ZG1100℃(<2h),连续工作200℃-1000℃,ZD升降温速率10℃/min;

加热器连续工作0-500℃,ZD升降温速率10℃/min

6、控温精度:±1℃

7、热电偶:K型

8、右法兰:一个3″石英样品支架,与石英挡板、法兰连成一体,设有KF25真空快接口,以及水冷接口(可选 配水冷机,避免O型圈融化)

9、左法兰:有2个独立1/4″口,可单独将任何气体通入炉内,一路1/4″口将预热气体通入CVD炉,一路1/4″口

将不加热的气体通入炉内,并通过炉内的T型结构与加热气体汇合

产品规格

尺寸:1200mm×450mm×510mm;重量:100kg

可选配件

1、水冷机

2、控温软件

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