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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间：2026-04-24 08:14:05

半导体行业

（共290件相关产品信息）
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产品分类：
更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 激光刻蚀机 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    全自动原子层沉积系统(ALD)

    维易科 Phoenix G2 ALD System 美洲 美国
    香港电子器材有限公司

    原子层沉积系统

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    全自动原子层沉积系统(ALD)

    维易科 Fiji G2 Plasma ALD 美洲 美国
    香港电子器材有限公司

    原子层沉积系统

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    全自动原子层沉积系统(ALD)

    维易科 Savannah G2 ALD 美洲 美国
    香港电子器材有限公司

    原子层沉积系统

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    Leica EM RES101多功能离子减薄仪

    德国徕卡 Leica EM RES101 欧洲 德国
    广州领拓仪器科技有限公司

    离子减薄仪

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    Osiris 桌面型匀胶机 旋涂机 热板BASIXX ST20+

    德国Osiris BASIXX ST20+ 欧洲 德国
    上海品测精密仪器有限公司
    BASIXX ST20 +是一款桌面式匀胶机系统，性价比高，具有匀胶、清洗、显影和干燥等多种功能，样品尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片，广泛用于大学，研究所等科研实验室。

    匀胶机

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    SMEE 600系列光刻机 —— IC前道制造

    上海品测 SMEE 600 上海 嘉定区
    上海品测精密仪器有限公司
    SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    SMEE 500系列光刻机 —— IC后道先进封装

    上海品测 SMEE 500 上海 嘉定区
    上海品测精密仪器有限公司
    SSB500系列步进投影光刻机主要应用于200mm/300mm集成电路封装领域，包括Flip Chip、Fan-In WLP、Fan-Out WLP和2.5D/3D等封装形式，可满足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圆级光刻工艺需求。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    SMEE 300系列光刻机 —— LED、MEMS、Power Devices

    上海品测 SMEE 300 上海 嘉定区
    上海品测精密仪器有限公司
    SSB300系列步进投影光刻机面向6英寸以下中小基底光刻应用领域，满足HB-LED、MEMS和Power Devices等领域单面或双面光刻工艺需求。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    SMEE 200系列光刻机—TFT曝光

    上海品测 SMEE 200 上海 嘉定区
    上海品测精密仪器有限公司
    SSB200系列投影光刻机采用投影光刻机平台技术，用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造，可应用于2.5代～6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，显著降低用户使用成本。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    脉冲激光沉积系统

    桂宁 上海 金山区
    轲润实验器材（上海）有限公司
    脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品（衬底）上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求，在丰富经验的基础上设计制造的，采用PBN加热器，可将基板加热到1000℃以上，并采用氧气气氛，从而生产出高质量的薄膜。

    激光溅射沉积系统

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    紫外曝光机/光刻机

    德国suss MJB4 欧洲 德国
    香港壘為信息科技實業有限公司

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    美国 NBM PLD脉冲激光沉积系统

    深圳科时达 PLD-300 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    脉冲激光沉积系统-PLD 型号：AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有Z好的性能价比, 用户用Z少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。

    激光溅射沉积系统

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    无掩膜直写光刻机

    深圳科时达 Micro Writer ML3 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    小型台式无掩膜光刻机- MA1200 小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。 光学轮廓仪 MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。 简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 Clewin 掩膜图形设计软件 ● 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 ● 书写范围只由基片尺寸决定

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner) M-100

    深圳科时达 M-100 亚洲 韩国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    原产国: 韩国，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比 型号：KCMA-100； 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等； ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上Z早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。 感谢南开大学，中科院半导体所,中科院长春应化所，中科院物理所，浙江师范大学使用此设备做课题研究！！ 此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比Z高的型号，达到欧美品牌的对准精度，CCD显示屏对准更为方便，液晶触摸屏操作，采用欧司朗紫外灯，寿命长。整机效果皮实耐用，正常使用3年内不会出问题！！ 目前，上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产，证明其品质达到LED产业标准要求！！而且已经成功提供图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻工艺设备.

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    日本 离子束刻蚀系统Elionix

    日本ELIONIX EIS-200 亚洲 日本
    深圳市科时达电子科技有限公司

    离子束刻蚀系统

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    AdNaNotek 脉冲激光沉积系统 PLD-12L/18L

    深圳科时达 PLD-12L/18L 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。

    激光溅射沉积系统

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    原子层沉积系统

    深圳科时达 15 亚洲 日本
    深圳市科时达电子科技有限公司
    日本Microphase 原子层沉积系统

    原子层沉积系统

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    日本Microphase 分子束外延系统　

    深圳科时达 Microphase 亚洲 日本
    深圳市科时达电子科技有限公司
    全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等。

    分子束外延系统

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    美国 laurell匀胶机650系列

    美国劳瑞尔 laurell650 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    laurell匀胶机650系列产品描述：过程控制器：650 系列过程控制器采用强大的微处理器，并且使用其随附的 PC 软件（以面向对象编程语言编写），在过程定义和使用方面实现了几乎闻所未闻的灵活性。该控制器允许操作员在过程执行期间实时交互，包括暂停时间，停止和从该点继续。该系统可以并且将在现场轻松快速地不断更新，并提供可下载的固件修订版。650系列控制器也可以与带有Spin 3000的PC配合使用

    匀胶机

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    原子层沉积系统 R系列

    芬兰Picosun R 欧洲 芬兰
    深圳市科时达电子科技有限公司
    PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALDZL。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。技术参

    原子层沉积系统

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    SAL3000原子层沉积系统

    日本AGUS SAL3000 亚洲 日本
    深圳市科时达电子科技有限公司
    SAL-3000 ALD原子层沉积系统SAL3000是一款适用于研究型的ALD原子层沉积设备，该设备Z多可搭载6路前驱体，适用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的镀膜。

    原子层沉积系统

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    NLD-3500 (A) ,全自动原子层沉积系统

    美国Nano-Master NLD-3500(A), 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    NLD-3500（A）全自动原子层沉积系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供ZY的薄膜性能。

    原子层沉积系统

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    PEALD 原子层沉积系统

    深圳科时达 PEALD 广东 深圳
    深圳市科时达电子科技有限公司
    1.ALD (传统的热原子层沉积)；2.PEALD (等离子增强原子层沉积)；3.Powder ALD (粉末样品的原子层沉积)；仪器简介：原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），也称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），或原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition。

    原子层沉积系统

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    脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD

    美国Neocera Pioneer180MAPLEPLD 美洲 美国
    深圳市科时达电子科技有限公司
    基质辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)是PLD的一种变体。这是由NRL集团新引入的技术，以促进某些功能有机材料的薄膜沉积。基于UV (5-6 eV)的传统PLD技术中，光化学反应可能会恶化有机分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通过将待沉积的有机物(或聚合物)与吸收激光波长的溶剂(基质)混合来制备特殊的靶。除了光学吸收外，在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。

    激光溅射沉积系统

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    MC-LMBE / PAC-LMBE 激光分子束外延系统

    日本帕斯卡 MC-LMBE/PAC-LMBE 亚洲 日本
    深圳市科时达电子科技有限公司
    激光分子束外延(Laser MBE)是上个世纪90年代发展起来的一种新型高精密制膜技术，它集PLD的制膜特点和传统MBE的超高真空精确控制原子尺度外延生长的原位实时监控为一体，除保持了PLD方法制备的膜系宽，还可以生长通常的半导体超晶格材料，特别适合生长多元素、高熔点、复杂层状结构的薄膜，如超导体、光学晶体、铁电体、压电体、铁磁体以及有机高分子等。

    分子束外延系统

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