仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业更新时间：2026-04-24 08:17:58

半导体行业

（共290件相关产品信息）

不知道怎么选为你提供选购方案发求购

产品分类：: 更多光刻机/台式无掩模光刻机离子减薄仪等离子体表面处理仪离子溅射仪电子束刻蚀系统离子束刻蚀系统激光刻蚀机磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪气相沉积系统分子束外延系统激光溅射沉积系统原子层沉积系统匀胶机

产品品牌：

不限
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z

美国Gatan

日本电子

日本Ushio

苏州汶灏

综合

销售地区

不限

售全国

售本省

售本市
厂商性质

不限

自营

代理

经销
价格由高到低
价格由低到高

参考报价

面议

善准科技等离子体表面处理仪VP-R10

品牌：善准科技型号：VP-R10 产地：广东广州

厂商：广州善准科技有限公司

简介：善准科技等离子体表面处理仪VP-R10真空腔体石英材质，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。

等离子体表面处理仪
参考报价

￥100000

全自动真空离子溅射仪喷金仪直流溅射镀膜导电处理

品牌：上海众濒型号：CIS-200 产地：上海奉贤区

厂商：上海众濒科技有限公司

简介：全自动真空离子溅射仪喷金仪直流溅射镀膜导电处理优势看得见：全自动微电脑控制，更智能；专利技术，1 0秒更换靶材；样品台内置高度调节功能，1秒即可调节；内置1 0步操作向导，5分钟即可熟练使用设备；

离子溅射仪
参考报价

￥100000

全自动真空离子溅射仪喷金仪磁控溅射镀膜导电处理

品牌：上海众濒型号：CIS400 产地：上海奉贤区

厂商：上海众濒科技有限公司

简介：全自动真空离子溅射仪喷金仪磁控溅射镀膜导电处理优势看得见：全自动微电脑控制，更智能；专利技术，1 0秒更换靶材；样品台内置高度调节功能，1秒即可调节；内置1 0步操作向导，5分钟即可熟练使用设备；

离子溅射仪
参考报价

面议

Leica EM Res102 多功能离子减薄仪

品牌：德国徕卡显微型号：EM Res102 产地：欧洲德国

厂商：深圳市新则兴科技有限公司

简介：使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备ZG水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。

离子减薄仪
参考报价

面议

DaLI无掩膜纳米光刻机

品牌：艾锐斯型号：DaLI 产地：北京海淀区

厂商：艾锐斯科技（北京）有限公司

简介：采用AOD激光操控技术，光斑定位精度优于1nm，高精度套刻对准，结构边缘超平滑，可轻松构建1微米以下线宽结构。先进的AOD激光操控技术，使得DaLI具有超高的激光定位精度（优于1nm），超长的有效寿命，以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。

光刻机/台式无掩模光刻机
参考报价

面议

CIF匀胶机

品牌：CIF 型号：SC1 产地：北京丰台区

厂商：赛莱博（北京）科技有限公司

简介：CIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。

匀胶机
参考报价

面议

英国Ossila匀胶机

品牌：欧西拉Ossila 型号：L2001 产地：欧洲英国

厂商：赛莱博（北京）科技有限公司

简介：英国Ossila公司匀胶机，操作简单，方便实用，旋涂均匀，结构小巧紧凑，为实验室提供了理想的解决方案，其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘，无需真空泵或充氮气，就能达到很好的旋涂效果。

匀胶机
参考报价

面议

电子束刻蚀 NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NIE-3500（R）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NIE-3500（R）RIBE反应离子束刻蚀：可以用于光栅刻蚀，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金属等的深槽刻蚀。此外，还可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。系统可以兼容反应气体以及非反应气体，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。

电子束刻蚀系统
参考报价

面议

离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NIE-4000 产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NIE-4000IBE离子束刻蚀系统：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内。

离子束刻蚀系统
参考报价

面议

PLD镀膜 NPD-4000（A）全自动PLD脉冲激光沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NPD-4000（A）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

激光溅射沉积系统
参考报价

面议

脉冲激光沉积 NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NPD-4000（M）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性； 5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

激光溅射沉积系统
参考报价

面议

湿法工艺晶圆温度测量系统光刻机晶圆温度测量系统

品牌：智测电子型号：定制产地：安徽合肥

厂商：合肥智测电子有限公司

激光刻蚀机
参考报价

面议

水冷型磁控溅射仪

品牌：郑州科探仪器型号：KT-Z1650PVD 产地：河南郑州

厂商：郑州科探仪器设备有限公司

简介：水冷型磁控溅射仪，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，Z大功率1000w直流磁控溅射。

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
参考报价

面议

郑科探实验室大功率桌面磁控溅射仪

品牌：郑州科探仪器型号：KT-Z1650PVD 产地：河南郑州

厂商：郑州科探仪器设备有限公司

简介：大功率桌面溅射仪，采用小电流高电压，Z大功率1000w，配有水冷机接口，可长时间运行。

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
参考报价

￥10

裕隆时代LMC-2000磁控溅射仪手套箱版

品牌：裕隆时代型号：LMC-2000 产地：北京海淀区

厂商：尚丰科技（香港）有限公司

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
参考报价

面议

汶灏匀胶机

品牌：苏州汶灏型号：WH-SC-01 产地：江苏苏州

厂商：苏州汶灏微流控技术股份有限公司

简介：1. 产品简介 WH-SC-01匀胶机适用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻的半导体工艺、制版、及表面涂覆等工艺，由汶颢股份自主研发，具有独立知识产权。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。匀胶机具有快速启动、快速切换转速和转速稳定的性能，能够保证胶膜厚度的一致性和均匀性。采用全触摸屏控制，实现启/停可控，转速实时观察、三档转速可来回切换等功能，启动后在低速下进行匀胶，再切换至高速下进行甩胶，转速及相应的时间分别可调；仪器配置了“安全开关”按钮，仪器运转时，上盖处于关闭状态，一旦上盖打开，将触发“安全开关”，仪器停止运转，起到保护作用。 2. 技术参数 转速：硅片4英寸（含）以内300-8500RPM；4英寸以上300-6000RPM 时间控制：1-32767s 转速稳定性：±1% 胶的均匀性：±3% 参数设定：触摸屏设置参数 适用于φ28至φ200mm硅片及其它材料等匀胶 电源输入：AC220V±10V，50HZ 功率：60W 重量：13kg 外形尺寸：300（W）*227（H）*350（D） 工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

匀胶机
参考报价

￥68000

LMC-2000磁控溅射仪

品牌：裕隆时代型号：LMC-2000 产地：北京海淀区

厂商：尚丰科技（香港）有限公司

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
参考报价

￥60000

中芯热成精密光刻机

品牌：中芯热成型号：ZXRC－PH－01 产地：北京通州区

厂商：中芯热成科技有限责任公司

简介：本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

光刻机/台式无掩模光刻机
参考报价

￥32000

裕隆时代LJ-16离子溅射仪

品牌：裕隆时代型号：LJ-16 产地：北京海淀区

厂商：尚丰科技（香港）有限公司

简介：LJ-16离子溅射仪是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金镀膜系统，能够极为有效的提高电镜观测效果。操作简便，性能优越，质量稳定，功能丰富

离子溅射仪
参考报价

面议

荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机

品牌：瑞士SCIL 型号：AutoSCIL 产地：欧洲瑞士

厂商：倬昊纳米科技（上海）中心

激光刻蚀机
参考报价

面议

荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

品牌：瑞士SCIL 型号：LabSCIL 产地：欧洲瑞士

厂商：倬昊纳米科技（上海）中心

光刻机/台式无掩模光刻机
参考报价

￥18000

北京赛德凯斯匀胶机旋涂仪KW-4BC-I

品牌：赛德凯斯型号：KW-4BC-I 产地：北京昌平区

厂商：北京赛德凯斯电子有限责任公司

简介：1.加速度可调，吸附可调，实时显示（加速度范围：10-10000RPM/S，速度：50-10000RPM带防飞片保护与报警。） 2.配备防进胶模组,有效解决旋涂中进胶问题，延长电机使用寿命带自动取片提示功能。 3.可选配两路自动涂胶显影模块，方便匀胶机与显影。 4.可选配一次性锅内衬：方便旋涂完毕后，清理废液。

匀胶机
参考报价

￥12000

北京赛德凯斯匀胶机旋涂仪KW-4B-I

品牌：赛德凯斯型号：KW-4B-I 产地：北京昌平区

厂商：北京赛德凯斯电子有限责任公司

简介：1.一键控制启动，暂停，复位：自动化程度高，单片机自动控制气路启动与停止。 2.双LED显示，带倒计时显示功能：精确计时，提高重复精度，保证多批次薄膜厚度的一致性。 3.真空吸附自动开启，停止。方便取放片，智能化程度更高。 4.吸附力可调，吸力实时显示，适用于柔性基片。 5.可选配涂胶显影模块，实现定量涂胶显影。 6.可选配一次性锅内衬：方便旋涂完毕后，清理废液

匀胶机
参考报价

面议

北京赛德凯斯匀胶机旋涂仪KW-4K

品牌：赛德凯斯型号：KW-4K 产地：北京昌平区

厂商：北京赛德凯斯电子有限责任公司

简介：1.立柜型匀胶机 2.最大可支持450mm基片旋涂。 3.速度：50-3000RPM。 4.8寸真彩色触摸屏。

匀胶机
参考报价

面议

北京赛德凯斯匀胶机旋涂仪KW-4Q

品牌：赛德凯斯型号：KW-4Q 产地：北京昌平区

厂商：北京赛德凯斯电子有限责任公司

简介：1.支持12寸硅片旋涂 2.最高转速可达6000转， 3.加速度10-1000RPM/S连续可调 4.带蓝牙通信 5.支持标准485modbus通信免费送pc端控制软件。

匀胶机

新品推荐: 托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro
步进式光刻更高的精度激光主动对焦 6 英寸加工幅面特征尺寸0.4 μm; 成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机半导体刻蚀离子束刻蚀反应离子刻蚀可定制; 成都真空设备厂家 research热蒸发/磁控溅射多靶复合磁控溅射镀膜机离子刻蚀机功能可定制; 郑科探等离子刻蚀机清洗机去胶机
等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。; 中芯热成精密光刻机
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。; 湿法工艺晶圆温度测量系统光刻机晶圆温度测量系统; 荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机; 荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机