半导体行业解决方案之PAG杂质鉴定、溯源

光刻胶配方中主要由基础聚合物、光致酸产生剂和猝灭剂等组成，其中材料的选择、配方的比例和杂质均会影响光刻工艺，对预期蚀刻的线路稳定性带来风险。针对其杂质的鉴定和溯源对于配方优化和研究尤为重要。Waters Xevo G3 QTof结合waters_connect UNIFI软件，可“工程精简”地实现结构确证、杂质溯源。

图2.PAG材料设计。

使用甲醇溶解后制成不同浓度用于主成分和杂质分析。基于Waters MS^E非数据依赖性数据采集、Waters UPLC技术的高效分离能力和软件的拆分能力，可同时获得母离子和碎片离子的信息。借助精确质量数和同位素获得可能的化学式，进一步基于软件匹配到的碎片信息，验证结构的可行性。在该案例中，PAG阴阳离子部分测得的碎片均有发生分子重排，在阳离子的碎片中获得C19H23的特征碎片信息。

杂质分析解决方案基于一个软件平台waters_connect UNIFI中，实现从二元比对、多元统计数据挖掘，到基于杂质与主成分的关系查找杂质，以及利用已知的合成信息/降解途径，进一步查找和溯源杂质。在纯度把控要求异常严苛的半导体光刻材料、OLED以及超纯化学品杂质分析中均具有广泛的应用（扫描文末二维码，获取杂质分析流程应用讲解视频）。

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