-
-
-
成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
- 品牌：成都超迈光电
- 型号： CM-015
- 产地：成都
- 供应商报价： ¥ 1000000 （市场参考价：¥ 1200000）
-
成都汉普升科技有限公司
更新时间：2023-11-14 15:45:50 -
企业性质生产商
入驻年限第2年
营业执照已审核
- 同类产品 干法刻蚀系统(2件)
-
为您推荐
- 详细介绍
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
-
成都真空设备厂家 research热蒸发/磁控溅射 多靶复合磁控溅射镀膜机 离子刻蚀机功能 可定制
-
成都真空设备厂家 surpass工业级电阻电子束蒸发 高精密光通讯产品镀制光学膜 可定制
-
成都真空设备厂家 surpass系列精密光学镀膜机 高精密光通讯产品镀制光学膜 可定制
-
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
-
德国Sentech等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500
-
Oxford RIE反应离子刻蚀机PlasmaPro 80
-
Hitachi聚焦离子束系统 MI4050
-
Hitachi聚焦离子束系统 MI4050
-
英国 SPTS深硅刻蚀机/等离子刻蚀机
-
德国SENTECH ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机
-
德国SENTECH电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统 SI500
-
MemsStar XeF2刻蚀机
