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仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业 更新时间：2026-04-24 08:13:20

半导体行业

（共290件相关产品信息）
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更多 光刻机/台式无掩模光刻机 离子减薄仪 等离子体表面处理仪 离子溅射仪 电子束刻蚀系统 离子束刻蚀系统 激光刻蚀机 磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪 气相沉积系统 分子束外延系统 激光溅射沉积系统 原子层沉积系统 匀胶机
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    全自动光刻机

    韩国MIDAS MDA-12SA 亚洲 韩国
    科睿设备有限公司
    MDA-12SA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的产品，代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    半自动光刻机

    韩国MIDAS MDA-400M, MDA-60MS 亚洲 韩国
    科睿设备有限公司
    光源强度可控

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    无掩膜光刻机 激光直写系统

    韩国MIDAS MLW-100 亚洲 韩国
    科睿设备有限公司
    紧凑型光学模块：使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    超高真空多腔室物理气相沉积系统

    美国PVD 4000 美洲 美国
    科睿设备有限公司
    该系统由全球专业的沉积设备商制造,配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.

    气相沉积系统

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    等离子体增强化学气相沉积系统

    美国PVD G 4000 美洲 美国
    科睿设备有限公司
    PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

    气相沉积系统

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    脉冲激光分子束外延系统

    美国PVD PLD-MBE-2100 美洲 美国
    科睿设备有限公司

    分子束外延系统

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    脉冲激光沉积系统

    美国PVD PLD-1000 美洲 美国
    科睿设备有限公司
    PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。

    激光溅射沉积系统

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    荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统

    荷兰TSST TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统 欧洲 荷兰
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统，脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。激光分子束外延系统（LMBE），是在PLD的基础上发展起来的外延薄膜生长技术。

    分子束外延系统

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    英国Cressinglon 自动离子溅射仪 108AUTO108AUTO 自动离子溅射仪

    美国泰德派勒 108AUTO 美洲 美国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    英国Cressinglon 自动离子溅射仪 108AUTO 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

    离子溅射仪

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    美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪

    美国泰德派勒 208HR 美洲 美国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到zui小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

    离子溅射仪

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    Ionfab 300 IBE 牛津离子束刻蚀机

    牛津仪器 Ionfab 300 IBE 欧洲 英国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。

    离子束刻蚀系统

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    瑞士Sawatec 匀胶机SM-150

    瑞士Sawatec SM-150 欧洲 瑞士
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    瑞士Sawatec 匀胶机SM-150 是手动或半自动薄膜涂覆的**选择，适用于表面没有或有非常矮形貌的基板涂胶作业。所有市面上的光刻胶与涂层材料都可被均匀涂覆到尺寸zuida为 150mm (6”) 127x127mm (5”x5”)的基板上。工艺腔设计可满足zuida直径为 176mm。 SM系列的优点在于，具有令人信服的高度涂膜均匀性和工艺重复性，并且操作简单、使用舒适。

    匀胶机

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    英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE

    英国牛津 PlasmaPro 800 RIE 欧洲 英国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE，是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。

    电子束刻蚀系统

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    Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000

    美国Nano-Master NOC-4000 美洲 美国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000,提供zuixian极n的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。

    离子束刻蚀系统

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    美TED PELLA 108AUTO 自动离子溅射仪 sputter coater

    美国泰德派勒 108Auto 美洲 美国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    · 自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和zui佳的导电喷镀效果。 · 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 · 操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。

    离子溅射仪

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    瑞士Sawatec匀胶机/热版机/显影机/喷胶机

    瑞士Sawatec SM-150 欧洲 瑞士
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    可编程，zui多 50 个程序(各包含 24 个程序段)； 适用于重复工艺的快速启动功能； 触摸屏面板控制，方便用户程序配置工艺参数：转速、加速度、工艺时间旋转方向可选 (顺时针、逆时针)。

    匀胶机

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    美国Trion Technology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统

    美国Trion RIE/ICP 美洲 美国
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    电子束刻蚀系统

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    System 100 等离子刻蚀与沉积设备

    牛津仪器 System 100 欧洲 英国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    牛津OXFORD System 100 等离子刻蚀与沉积设备，具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术。

    电子束刻蚀系统

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    德国Sentech等离子刻蚀机 ICP-RIE SI 500

    德国Sentech ICP-RIE SI 500 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    衬底温度的设置和蚀刻过程的稳定性是高质量蚀刻的要求。采用动态温度控制的ICP基片电极，结合He背面冷却和基片背面温度传感，在-150℃到+400℃的大范围温度范围内，提供了优良的工艺条件。

    电子束刻蚀系统

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    Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级)

    德国Sentech Etchlab200 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级),经济型刻蚀机应用范围：硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料。直接装片型、可升级、在线监控、大尺寸观察窗、远程操作。

    电子束刻蚀系统

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    德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统

    德国Sentech 200 RIE 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 ，将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。根据其模块化设计，Etchlab 200可以升级为更大的抽油机、真空负载锁和额外的气体管道。

    电子束刻蚀系统

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    Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备

    牛津仪器 Oxford System 100 欧洲 英国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备，是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术。 可处理8 "晶片，也具有小批量（6 × 2"）预制和试生产的能力。

    电子束刻蚀系统

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    德国Heidelberg MLA 150 激光光刻机

    德国海德堡 MLA 150 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    德国高精密激光直写绘图机 非接触式曝光 可支持GX数位光刻与灰度光刻

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    德国Heidelberg MLA 100 激光光刻机

    德国海德堡 MLA 100 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    基本灰度曝光模式 对准摄像系统 实时自动对焦 User-optimized接触向导

    光刻机/台式无掩模光刻机

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    德国海德堡VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻机

    德国海德堡 VPG 1600 欧洲 德国
    深圳市蓝星宇电子科技有限公司
    VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，并且可以选择zui高输出功率20W的UV激光发射头。

    光刻机/台式无掩模光刻机

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郑科探等离子刻蚀机清洗机去胶机

等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。

中芯热成精密光刻机

本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

湿法工艺晶圆温度测量系统 光刻机晶圆温度测量系统

荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机

荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

应用方案

光学显微镜应用于电子半导体行业 半导体行业 | 测量如何“见微知著”？ 半导体封装行业的热分析应用 半导体行业解决方案之蚀刻液分析 光纤光谱仪在半导体行业的应用 半导体行业精选案例免费领取 半导体行业解决方案之PAG杂质鉴定、溯源 分享 | 半导体行业要求的“快”速检测 透射近红外显微镜在半导体行业的应用 快速温变试验箱在半导体行业的应用

行业资料

5994-4747ZHCN-安捷伦半导体行业解决方案 半导体行业中的超纯水质控 短波红外相机在半导体行业的应用 特氟龙在半导体行业的主要应用 电子半导体行业0.1微米颗粒检测方案 NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质 TOC在电子，半导体和电子行业的应用 表面微粒分析仪P-III：半导体行业的微观洞察利器 飞纳台式扫描电镜在半导体行业中的应用 NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

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