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磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
电子束刻蚀系统
匀胶机
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离子溅射仪
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光刻机/台式无掩模光刻机
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气相沉积系统
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托托科技无掩模光刻机TTT-07-UV Litho-ACA Pro
步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
成都真空设备厂家 research热蒸发/磁控溅射 多靶复合磁控溅射镀膜机 离子刻蚀机功能 可定制
郑科探等离子刻蚀机清洗机去胶机
等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备,主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。,与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。
中芯热成精密光刻机
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机,主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
湿法工艺晶圆温度测量系统 光刻机晶圆温度测量系统
荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机
荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机
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