仪器网>产品中心>行业专用仪器>半导体行业更新时间：2026-04-24 08:12:56

半导体行业

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产品分类：: 更多光刻机/台式无掩模光刻机离子减薄仪等离子体表面处理仪离子溅射仪电子束刻蚀系统离子束刻蚀系统激光刻蚀机磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪气相沉积系统分子束外延系统激光溅射沉积系统原子层沉积系统匀胶机

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PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NPE-4000（ICPA）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。

气相沉积系统
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CVD设备微波等离子化学气相沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：PECVD 产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。

气相沉积系统
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MC1000离子溅射仪

品牌：日立型号：MC1000 产地：亚洲日本

厂商：上海西努光学科技有限公司

离子溅射仪
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￥48000

SD-900M 磁控溅射仪

品牌：博远微纳型号：SD-900M 产地：北京海淀区

厂商：北京博远微纳科技有限公司

简介：SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。配有高位定性的飞跃真空泵

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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ald原子层沉积 NLD-3000原子层沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NLD-3000 产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NLD-3000原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。

原子层沉积系统
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ald原子层沉积设备 NLD-4000（M）原子层沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NLD-4000（M）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NLD-4000（M）原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。

原子层沉积系统
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PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NPE-3500 产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。

气相沉积系统
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PECVD设备 NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NPE-4000（ICPM）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。

气相沉积系统
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原子层沉积设备 NLD-4000（A）全自动原子层沉积系统那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NLD-4000（A）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：NLD-4000（A）全自动原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。

原子层沉积系统
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那诺-马斯特 NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀

品牌：美国那诺-马斯特型号：NIE-3500（A）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。

离子束刻蚀系统
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那诺-马斯特 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀

品牌：美国那诺-马斯特型号：NIE-4000（M）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。

离子束刻蚀系统
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刻蚀机 NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：NRE-4000（A）产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。

电子束刻蚀系统
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反应离子刻蚀 RIE刻蚀机那诺-马斯特

品牌：美国那诺-马斯特型号：RIE刻蚀机产地：美洲美国

厂商：那诺—马斯特中国有限公司

简介：RIE刻蚀机概述：RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

电子束刻蚀系统
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上海伯东氦质谱检漏仪光刻机检漏 ASM 310

品牌：普发真空型号： ASM 310 产地：欧洲德国

厂商：伯东企业（上海）有限公司

简介：便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 主要优点： 1.集成无油真空系统：隔膜泵 MVP 020 1.7 m3/h 粗抽能力 + ATH 系列涡轮分子泵 2.氦气抽速 1.1l/s 3.进气口压力 15 hPa 4.大尺寸高亮彩色触摸屏 5.便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 重量仅 21 Kg 6.丰富的可选配件，如吸枪、遥控器、小推车、标准漏孔等 7.带有可伸缩手柄的灵巧设计 8.可以在任何位置操作：水平或垂直 9.可拆卸式操作面板，带有用于在金属底板上定位的磁铁

激光刻蚀机
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组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System

品牌：美国Neocera 型号：Combinatorial PLD System 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：连续组成扩展功能（CCS）可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料，大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间，实现合成材料组分的优化。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。Neocera 公司 PLD 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能（CCS-PLD）和标准型 PLD 功能。

激光溅射沉积系统
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System

品牌：美国Neocera 型号： Ion-Assisted PLD System 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：离子辅助PLD可以通过改变成核过程或生长动力学来创建氧化物或金属的界面。离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的 PLD 系统，该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。

激光溅射沉积系统
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 120 PLD System

品牌：美国Neocera 型号： Pioneer 120 PLD System 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：Pioneer 120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热，其他模型使用辐射加热阶段。为了达到950°c的额定高温，基板必须与加热板紧密接触，用银浆提供加热板和基板之间的紧密接触(当需要这些高温时)。在不需要银浆的情况下，还提供衬底夹来固定衬底。在这些情况下,ZG衬底温度可能低于额定950°c。加热器是氧兼容的，能达到1大气(760托)的氧, 这个特性有助于制备外延氧化薄膜：可能需要在氧气环境后沉积和氧气压力接近1 atmosphere后退火冷却。Pioneer 120 PLD系统包括一个自动多目标转，具有目标旋转、目标光栅和软件控制的多层和超晶格沉积所需的目标选择。闭环压力控制提供了使用质量流量控制器的精确过程压力控制。干式泵是由机械隔膜泵或涡旋泵支持的涡轮分子泵组合而成。该系统软件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加热器，目标转，过程压力，系统泵和激光触发。

激光溅射沉积系统
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 PLD System

品牌：美国Neocera 型号：Pioneer 180 PLD System 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积。 •使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。 •氧化膜沉积的氧相容性。 •升级:离子辅助PLD，组合型PLD，目标衬底负载锁定。 •其他沉积源:脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射，直流离子枪。 •与XPS /ARPES特高压集群工具集成，原位特高压晶片转移。 •原位诊断:低角度x射线光谱学(LAXS)和离子能光谱学(IES)。

激光溅射沉积系统
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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems

品牌：美国Neocera 型号：Large-Area PLD Systems 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：•全自动大尺寸PLD系统 •晶圆尺寸:4 "(100毫米)，6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径 •外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积 •高温下氧化膜沉积的氧相容性 •自动激光扫描厚度均匀性

激光溅射沉积系统
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脉冲激光沉积系统 Pioneer120 Advanced PLD System

品牌：美国Neocera 型号：Pioneer120 Advanced PLD System 产地：美洲美国

厂商：北京正通远恒科技有限公司

简介：Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于zhuo越经验的创新设计 Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得**薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。

激光溅射沉积系统
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统

品牌：日本电子型号：JBX-8100FS 产地：亚洲日本

厂商：捷欧路（北京）科贸有限公司

简介：zuixin高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

激光刻蚀机
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IXRF磁控离子溅射仪MSP-2S/MSP-Mini

品牌：日立型号：MSP-2S/MSP-Mini 产地：亚洲日本

厂商：上海西努光学科技有限公司

离子溅射仪
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￥2500000

SD-650MH高真空磁控溅射镀膜机

品牌：博远微纳型号：SD-650MH 产地：北京海淀区

厂商：北京博远微纳科技有限公司

简介：可镀铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

磁控溅射仪/磁控溅射镀膜仪
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￥88888

上海微行PECVD型等离子增强化学气相沉积系统

品牌：上海微行炉业型号：PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产地：江苏苏州

厂商：上海微行炉业有限公司

简介：价格有优势，而且服务效率，质量上面好而且有保证。

气相沉积系统
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离子溅射仪EMS150T

品牌：美国EMS 型号：EMS150T 产地：美洲美国

厂商：海德创业（北京）生物科技有限公司

离子溅射仪

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等离子刻蚀机清洗机用于表面清洗,活化,刻蚀电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。，与动辄十几万美元的大型产品相比小型等离子清洗机具有成本低廉、操作灵活的特点。; 中芯热成精密光刻机
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。; 湿法工艺晶圆温度测量系统光刻机晶圆温度测量系统; 荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机; 荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机