zuixin高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。
◇ 节省空间
标准的设备占地面积为4.9m(W)×3.7m(D)×2.6m(H),比以往机型占用空间更小,外形更加紧凑美观。
◇ 低功耗
正常工作时的功耗约为3kVA,仅需以往机型耗电量的1/3。
◇ 高产能
具备高分辨率和高速两种刻写模式,非常适用于超微细加工以及批量生产。该设备减少了刻写过程中的无谓耗时,并将扫描频率提升至业界最高最水准的125MHz (以往机型的1.25~2.5倍),使其具备更高的生产能力。
◇ 机型
JBX-8100FS系列设有G1(基本版)和G2(全配版)两种机型。G1机型装机后也可进行升级,使其支持更高的应用需求。
◇ 新功能
安装光学显微镜(选配)后,在避免光刻胶感光的的同时可对材料上的图形进行确认。设备还配备了信号塔(标配),实现了视觉范围内的系统运行状况监控。
◇ 激光定位分辨率
采用分辨率为0.6nm的激光干涉仪,对样品台位置进行高精度的量测控制。
◇ 系统控制
配备了Linux®系统,图形用户界面使操作更加简单,便于初学者使用。数据准备程序支持Linux®和Windows®
备注:
Linux® 为Linus Torval在日本及其它国家的注册商标或商标。
Windows为美国微软公司在美国及其它国家的注册商标或商标。

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步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机,主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
采用AOD激光操控技术,光斑定位精度优于1nm,高精度套刻对准,结构边缘超平滑,可轻松构建1微米以下线宽结构。 先进的AOD激光操控技术,使得DaLI具有超高的激光定位精度(优于1nm),超长的有效寿命,以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。
主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20
创新采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制;采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明;可连续设定分离间隙;采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。