JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。
zuixianjin的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿。
报价：面议
已咨询1558次电子束光刻装置
报价：面议
已咨询1436次日本Elionix
报价：面议
已咨询439次UV-NIL/SmartNIL紫外压印
报价：面议
已咨询3289次样品制备
报价：面议
已咨询373次聚焦离子束电子束双束显微镜 DB550
报价：面议
已咨询1821次电子束光刻装置
步进式光刻 更高的精度 激光主动对焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本设备是我公司专门针对各大、专院校及科研单位研发使用的一种精密光刻机，主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。
采用AOD激光操控技术，光斑定位精度优于1nm，高精度套刻对准，结构边缘超平滑，可轻松构建1微米以下线宽结构。 先进的AOD激光操控技术，使得DaLI具有超高的激光定位精度（优于1nm），超长的有效寿命，以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。
主要优势 ► 小巧桌上型系统 ► 掩膜板制作及激光直写 ► 375nm 或405nm 激光源 ► 兼容所有光刻胶 ► 高深宽比: 1 x 20
创新采用三柔性支点实现高精度自动调平；真空接触自动曝光；样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化控制；采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明；可连续设定分离间隙；采用双目双视场显微镜实现高对准精度。整机具有性能可靠、操作方便、自动化程度高等特点。
营业执照已审核
分享
收藏
沪公网安备 31011502008050号